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公开(公告)号：CN105190398B
公开(公告)日：2018-01-16
申请号：CN201480025196.8
申请日：2014-03-14
Applicant: LIMO专利管理有限及两合公司
Inventor： T·米特拉
CPC classification number: G02B27/0927 , G02B3/0043 , G02B5/045 , G02B19/0014 , G02B19/0057 , G02B19/0066 , G02B27/0972 , G02B27/30 , H01S5/005 , H01S5/4025 , H01S5/4031
Abstract: 本发明涉及一种照明装置(1)，包括：－至少一个激光二极管条(100)，其具有多个发射器(101、102、103)，它们沿第一方向并列设置并且可在运行中发出子光束(10，11，12)，子光束在构成慢轴方向的第一方向上比在垂直于第一方向的构成快轴方向的第二方向上具有更小的光束发散，并且至少一些发射器(101、102、103)相对于其它发射器(101、102、103)具有高度偏移；－快轴准直器件(2)，其沿垂直于慢轴方向和快轴方向的光束传播方向设置在所述至少一个激光二极管条(100)下游；－光束变换器件(3)，其沿光束传播方向设置在快轴准直器件(2)下游并且设置用于使子光束(10、11、12)在穿过时旋转90°；其中，该照明装置(1)包括棱镜阵列(4)，该棱镜阵列沿光束传播方向设置在光束变换器件(3)下游并且具有数量对应于发射器(101、102、103)数量的棱镜器件(40、40')，所述棱镜器件沿第一方向并列设置并且分别具有用于子光束(10、11、12)之一的光入射面(400、400')和光出射面(401、401')，具有高度偏移的子光束(12)所穿过的棱镜器件(40')的光入射面(400')和/或光出射面(401')这样构造，使得能通过平行该子光束(12)校正坡印亭误差。
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公开(公告)号：CN104619457B
公开(公告)日：2017-04-05
申请号：CN201380047224.1
申请日：2013-07-09
Applicant: LIMO专利管理有限及两合公司
Inventor： T·米特拉
CPC classification number: B23K26/702 , B23K26/704 , B23K37/006 , F01K27/02 , H01L31/0547 , Y02E10/52 , Y02P70/181
Abstract: 本发明涉及一种用于回收光学加工装置(1)的未利用的光学辐射能的方法，该光学加工装置包括至少一个光源、尤其是激光光源(2)或者具有多个发光二极管的光源，该方法包括如下步骤：运行所述至少一个光源并且产生电磁射线(4)，给至少一个工件(5)加载用于加工工件(5)的电磁射线(4)，将未用于加工所述至少一个工件(5)的电磁射线(4')的至少一部分收集在至少一个回收装置(6、6a、6b)的光陷阱机构(7)中，将由所述至少一个回收装置(6、6a、6b)的光陷阱机构(7)收集的电磁射线(4')的辐射能的至少一部分转化成电能(14)。此外，本发明涉及一种用于回收光学加工装置(1)的未利用的电磁辐射能的回收装置(6、6a、6b)以及涉及一种光学加工装置(1)。
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公开(公告)号：CN105665934A
公开(公告)日：2016-06-15
申请号：CN201610029661.6
申请日：2013-02-11
Applicant: LIMO专利管理有限及两合公司
IPC: B23K26/352 , B23K26/354 , B23K26/064 , B23K26/08 , B23K26/14
CPC classification number: B23K26/352 , B23K26/0006 , B23K26/06 , B23K26/0643 , B23K26/0652 , B23K26/08 , B23K26/0869 , B23K26/106 , B23K26/14 , B23K26/354 , B23K2101/34 , B23K2103/50 , C23C4/129 , C23C4/134 , B23K26/0648
Abstract: 本发明涉及工件表面加工或涂层后处理设备与方法以及工件涂层方法，特别是涉及一种用于对工件表面进行加工或者用于对工件外侧面或内侧面上的涂层进行后处理的设备，所述工件特别是金属工件、优选管件，该设备包括：能够穿过工件或者在工件外部运动的作业加工头(2)；用于将激光光线(10)导送至作业加工头(2)的器件亦即光导纤维(5)或者用于在作业加工头(2)内产生激光光线的器件；以及设置在作业加工头(2)内的光学器件(7)，这些光学器件能够对工件的内侧面或外侧面施加激光光线(10)。
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公开(公告)号：CN104020568A
公开(公告)日：2014-09-03
申请号：CN201410299499.0
申请日：2009-06-05
Applicant: LIMO专利管理有限及两合公司
CPC classification number: G02B27/0905 , G02B27/0927 , G02B27/0961 , H01S3/005 , H01S2301/206
Abstract: 本发明涉及一种射束成形设备，包括：能发射激光辐射(39)的至少一个被构造为半导体激光器(38)的激光源，所述激光辐射(39)在快轴方向(Y)上具有的扩散度比慢轴方向(X)上的大，能够至少部分地对所述激光辐射在快轴方向(Y)上的扩散度进行准直的光学功能准直界面(40)，具有至少一个光学功能转换界面(41，42，43)的光学装置，其中所述激光辐射(39)的至少一个子束能够穿过所述光学功能转换界面，使得所述激光辐射(39)至少部分地在工作面(7)中具有的强度分布(8)至少对于一个方向(Y)对应于平顶分布，其中，所述光学功能准直界面(40)和所述光学功能转换界面(41，42，43)被集成到一个部件(35，36，37)中。
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公开(公告)号：CN103649817B
公开(公告)日：2016-08-24
申请号：CN201280023875.2
申请日：2012-05-08
Applicant: LIMO专利管理有限及两合公司
Inventor： T·米特拉
IPC: G02B27/09
CPC classification number: G02B27/0927 , G02B27/0966
Abstract: 本发明涉及一种照明设备，其包括：光源，该光源能够产生用于照明的光；光学装置，该光学装置能够在第一平面内产生光的第一场分布；非球面的透镜装置，该透镜装置在光的传播方向上设置在第一平面后面，使得第一平面的第一场分布能够由透镜装置成像到第二平面内，使得在那里能够产生一个第二场分布，透镜装置延伸所在的平面和/或第二平面相对于第一平面倾斜，第二平面和第一平面之间的夹角等于透镜装置延伸所在的平面和第一平面之间的夹角，照明设备或者光学装置包括均化装置，该均化装置在光的传播方向上设置在第一平面前面，光学装置包括傅立叶透镜，该傅立叶透镜设置在均化装置和第一平面之间，并且透镜装置设置在傅立叶透镜的光轴上。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN104136163B
公开(公告)日：2016-02-03
申请号：CN201380011103.1
申请日：2013-02-11
Applicant: LIMO专利管理有限及两合公司
IPC: B23K26/352 , B23K26/14 , B23K26/354 , B23K26/064 , B23K26/08 , B23K26/10 , B23K26/00
CPC classification number: B23K26/352 , B23K26/0006 , B23K26/06 , B23K26/0643 , B23K26/0652 , B23K26/08 , B23K26/0869 , B23K26/106 , B23K26/14 , B23K26/354 , B23K2101/34 , B23K2103/50 , C23C4/129 , C23C4/134
Abstract: 本发明涉及一种用于对工件表面进行加工或者用于对工件外侧面或内侧面上的涂层进行后处理的设备，所述工件特别是金属工件、优选管件，该设备包括：能够穿过工件或者在工件外部运动的作业加工头(2)；用于将激光光线(10)导送至作业加工头(2)的器件亦即光导纤维(5)或者用于在作业加工头(2)内产生激光光线的器件；以及设置在作业加工头(2)内的光学器件(7)，这些光学器件能够对工件的内侧面或外侧面施加激光光线(10)。
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公开(公告)号：CN104619457A
公开(公告)日：2015-05-13
申请号：CN201380047224.1
申请日：2013-07-09
Applicant: LIMO专利管理有限及两合公司
Inventor： T·米特拉
CPC classification number: B23K26/702 , B23K26/704 , B23K37/006 , F01K27/02 , H01L31/0547 , Y02E10/52 , Y02P70/181
Abstract: 本发明涉及一种用于回收光学加工装置(1)的未利用的光学辐射能的方法，该光学加工装置包括至少一个光源、尤其是激光光源(2)或者具有多个发光二极管的光源，该方法包括如下步骤：运行所述至少一个光源并且产生电磁射线(4)，给至少一个工件(5)加载用于加工工件(5)的电磁射线(4)，将未用于加工所述至少一个工件(5)的电磁射线(4')的至少一部分收集在至少一个回收装置(6、6a、6b)的光陷阱机构(7)中，将由所述至少一个回收装置(6、6a、6b)的光陷阱机构(7)收集的电磁射线(4')的辐射能的至少一部分转化成电能(14)。此外，本发明涉及一种用于回收光学加工装置(1)的未利用的电磁辐射能的回收装置(6、6a、6b)以及涉及一种光学加工装置(1)。
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公开(公告)号：CN102081234A
公开(公告)日：2011-06-01
申请号：CN201010577029.8
申请日：2010-10-08
Applicant: LIMO专利管理有限及两合公司
CPC classification number: G02B27/0966 , G02B6/4206 , G02B19/0014 , G02B19/0057 , H01S5/02284 , H01S5/4012
Abstract: 用于激光辐射成形的设备，其中，该设备能将激光辐射成形为，使得该激光辐射能够进入光导纤维(5)中，包括：用于使激光辐射关于第一方向(Y)偏转和/或投射或准直的第一透镜装置，以及用于使激光辐射关于第二方向(X)偏转和/或投射或准直的第二透镜装置；其中，所述第一和第二透镜装置是在一个构件(1)内或一个构件上实现的。
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公开(公告)号：CN105209215B
公开(公告)日：2017-07-21
申请号：CN201480027335.0
申请日：2014-05-14
Applicant: LIMO专利管理有限及两合公司
Inventor： T·米特拉
IPC: G02B27/09 , B23K26/064 , G02B3/00
CPC classification number: G02B27/0927 , B23K26/0648 , B23K26/282 , B29C65/16 , B29C65/1687 , G02B27/0955 , G02B27/0961 , G02B27/0994 , G02B27/12 , G21K5/02
Abstract: 用于利用激光辐射(13)作用旋转对称的构件(11)的外侧的装置，包括多个透镜(10)，这些透镜这样设计和/或设置，使得构件(11)的对称轴线(12)位于每个所述透镜(10)的焦点处。
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公开(公告)号：CN105793757A
公开(公告)日：2016-07-20
申请号：CN201480065658.9
申请日：2014-12-15
Applicant: LIMO专利管理有限及两合公司
Inventor： T·米特拉
CPC classification number: G02B27/0966 , G02B3/0043 , G02B3/005 , G02B3/0068 , G02B6/2848 , G02B6/4206 , G02B19/0014 , G02B19/0057 , G02B27/09 , G02B27/0916 , G02B27/0961 , H01S5/4012 , H01S5/4031 , H01S5/405 , H01S5/4075
Abstract: 本发明涉及一种用于形成激光辐射(10a、10c)的装置，所述装置具有：包括入射面(2)和出射面(3)的构件(1)；入射面(2)上的第一透镜阵列(4)，所述第一透镜阵列具有多个沿X方向并排设置的透镜(5a、5c、5e)；以及出射面(3)上的第二透镜阵列(6)，所述第二透镜阵列具有多个沿Y方向并排设置的透镜(7a、7c、7e)，其中，激光辐射(10a、10c)由第一透镜阵列(4)的透镜(5a、5c、5e)中的第一透镜关于X和Y方向与由第一透镜阵列(4)的透镜(5a、5c、5e)中的第二透镜相比以不同的角度转向，和/或激光辐射(10a、10c)由第二透镜阵列(6)的透镜(7a、7c、7e)中的第一透镜关于X和Y方向与由第二透镜阵列(6)的透镜(7a、7c、7e)中的第二透镜相比以不同的角度转向。
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