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公开(公告)号：CN103119481B
公开(公告)日：2015-07-01
申请号：CN201180037021.5
申请日：2011-07-26
Applicant: LG化学株式会社
IPC: G02B5/30 , G02F1/1337
CPC classification number: G03F1/42 , G02B5/201 , G02F1/1303 , G02F1/133753 , G02F1/133788 , G03B27/72 , G03F7/0007 , G03F7/24
Abstract: 本发明提供了一种掩膜和含有该掩膜的滤光片制造设备。所述滤光片制造设备包括：在卷装进出方法中使用的辊；卷绕在所述辊上的基膜；产生用于曝光的光的光源；偏光板，其被安装在所述光源的发光侧，并且使从所述光源中产生的光偏振；和掩膜，其致使在所述基膜上形成图形且包括多个导缝，所述多个导缝被开口以具有预定的厚度和预定的宽度。根据本发明，所述基膜的整个表面可以用均匀的光量辐照。因此，可以在所述基膜的表面上均匀地形成图形，可以提高产品的质量，并且可以精确地实现基膜的性能。
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公开(公告)号：CN105334564A
公开(公告)日：2016-02-17
申请号：CN201510927487.2
申请日：2012-08-07
Applicant: LG化学株式会社
CPC classification number: G02B5/3083 , G02B5/3016 , G02B27/26
Abstract: 本申请涉及一种滤光片和立体显示装置。该示例性的滤光片可以用于立体显示装置上，在没有损失亮度的情况下以宽视角观看立体影像。
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公开(公告)号：CN103959155B
公开(公告)日：2017-02-22
申请号：CN201280059575.X
申请日：2012-01-19
Applicant: LG化学株式会社
IPC: G02F1/1337
CPC classification number: G03F7/70733 , G03F1/00 , G03F1/50 , G03F1/54 , G03F7/24 , G03F7/70691
Abstract: 本发明涉及一种制造发光器件的方法和光取向层。在本发明的发光器件的一个实施方式中包括的掩膜被设置成以高亮度发射具有良好平行性的光到距离一定距离的要照射的表面上，并且通过使用所述掩膜能够制造具有精确形成的取向图案的光取向层。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103959155A
公开(公告)日：2014-07-30
申请号：CN201280059575.X
申请日：2012-01-19
Applicant: LG化学株式会社
IPC: G02F1/1337
CPC classification number: G03F7/70733 , G03F1/00 , G03F1/50 , G03F1/54 , G03F7/24 , G03F7/70691
Abstract: 本发明涉及一种制造发光器件的方法和光取向层。在本发明的发光器件的一个实施方式中包括的掩膜被设置成以高亮度发射具有良好平行性的光到距离一定距离的要照射的表面上，并且通过使用所述掩膜能够制造具有精确形成的取向图案的光取向层。
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公开(公告)号：CN103119481A
公开(公告)日：2013-05-22
申请号：CN201180037021.5
申请日：2011-07-26
Applicant: LG化学株式会社
IPC: G02B5/30 , G02F1/1337
CPC classification number: G03F1/42 , G02B5/201 , G02F1/1303 , G02F1/133753 , G02F1/133788 , G03B27/72 , G03F7/0007 , G03F7/24
Abstract: 本发明提供了一种掩膜和含有该掩膜的滤光片制造设备。所述滤光片制造设备包括：在卷装进出方法中使用的辊；卷绕在所述辊上的基膜；产生用于曝光的光的光源；偏光板，其被安装在所述光源的发光侧，并且使从所述光源中产生的光偏振；和掩膜，其致使在所述基膜上形成图形且包括多个导缝，所述多个导缝被开口以具有预定的厚度和预定的宽度。根据本发明，所述基膜的整个表面可以用均匀的光量辐照。因此，可以在所述基膜的表面上均匀地形成图形，可以提高产品的质量，并且可以精确地实现基膜的性能。
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