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发明公开
感放射线性组合物、显示装置用绝缘膜及其形成方法、显示装置、及倍半硅氧烷审中-公开转让

公开(公告)号：CN111913356A

公开(公告)日：2020-11-10

申请号：CN202010356445.9

申请日：2020-04-29

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 秋池利之 , 奥村佳久 , 田崎太一 , 尹昶植

IPC: G03F7/075 , C08G77/28

Abstract: 本发明提供一种感放射线性组合物、使用所述感放射线性组合物而获得的显示装置用绝缘膜及显示装置、使用所述感放射线性组合物的显示装置用绝缘膜的形成方法、以及作为所述感放射线性组合物的成分而优选的倍半硅氧烷，所述感放射线性组合物具有充分的光刻性能，且即便通过比较低温、例如120℃以下的加热也可获得具有充分的耐蚀刻药液性及耐氧灰化性的硬化膜。本发明的感放射线性组合物为包含具有下述式(1)所表示的第一结构单元的倍半硅氧烷、感放射线性自由基聚合引发剂、及有机溶媒的感放射线性组合物。式(1)中，X为具有不饱和双键的一价有机基。[化1]

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