组合物、硬化膜及其制造方法、半导体元件以及显示元件

    公开(公告)号:CN115202152A

    公开(公告)日:2022-10-18

    申请号:CN202210382467.1

    申请日:2022-04-13

    Abstract: 本发明提供一种为高感度且可在减压干燥工序中实现减压到达时间的缩短化、并且可获得显影残渣少的硬化膜的组合物、硬化膜及其制造方法、半导体元件以及显示元件。一种感放射线性组合物,含有:丙烯酸系聚合物(A1),包含具有式(1)所表示的基的结构单元(I);聚合物(A2),包含具有酸性基的结构单元(α)及具有环状醚基的结构单元(β),且不含具有式(1)所表示的基的结构单元;以及感放射线性化合物,并且丙烯酸系聚合物(A1)包含超过15质量%且97质量%以下的结构单元(I),丙烯酸系聚合物(A1)与聚合物(A2)的含有比率为(A1):(A2)=3:97~40:60(质量比)。

    液晶装置及其制造方法
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN109791335A

    公开(公告)日:2019-05-21

    申请号:CN201780061135.0

    申请日:2017-09-28

    CPC classification number: G02F1/1337 G02F1/1339

    Abstract: 液晶装置10包括:一对基板,包括经对向配置的第1基板11及第2基板12;以及液晶层14,配置于第1基板11及第2基板12之间。关于液晶装置10,在第1基板11及第2基板12的两者上未形成液晶取向膜,在第2基板12上形成有沿朝向第1基板11的方向延伸的间隔物15a,在第1基板11上设置有抑制部,所述抑制部抑制由间隔物15s的前端部移动而造成的液晶层14的取向混乱。

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