公开(公告)号：CN112740105A

公开(公告)日：2021-04-30

申请号：CN201980061305.4

申请日：2019-09-10

Applicant: HOYA株式会社

Inventor： 大久保亮 ,  前田仁 ,  穐山圭司 ,  野泽顺

IPC: G03F1/32 ,  C23C14/04 ,  G03F1/34 ,  G03F1/54 ,  G03F1/80 ,  H01L21/3065

Abstract: 本发明提供一种具备蚀刻停止膜的掩模坯料，该蚀刻停止膜对于在将图案形成用薄膜进行图案化时使用的利用氟类气体的干法蚀刻的耐性高，进而对于曝光光的透射率高。所述掩模坯料具备在透光性基板上依次层叠有蚀刻停止膜和图案形成用的薄膜的结构，薄膜由含有硅的材料形成，蚀刻停止膜由含有铪、铝及氧的材料形成，在蚀刻停止膜中，铪的含量相对于铪及铝的合计含量的比率以原子％计为0.86以下。

公开(公告)号：CN112740106A

公开(公告)日：2021-04-30

申请号：CN201980061510.0

申请日：2019-09-10

Applicant: HOYA株式会社

Inventor： 大久保亮 ,  前田仁 ,  穐山圭司 ,  野泽顺

IPC: G03F1/32 ,  G03F1/80 ,  H01L21/3065

Abstract: 本发明提供一种具备蚀刻停止膜(1)的掩模坯料(100)，该蚀刻停止膜(1)对于在将相移膜(3)进行图案化时使用的利用氟类气体的干法蚀刻的耐性高，进而对于曝光光的透射率高。所述掩模坯料(100)具备在透光性基板(1)上依次层叠有蚀刻停止膜(2)和相移膜(3)的结构，相移膜(3)由含有硅的材料形成，蚀刻停止膜(2)由含有铪、铝及氧的材料形成，蚀刻停止膜(2)的氧缺失率为6.4％以下。