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1.

发明公开
小结构的局部真空中修改有权

公开(公告)号：CN103066012A

公开(公告)日：2013-04-24

申请号：CN201210345182.7

申请日：2012-09-18

申请人： FEI公司

发明人： A.P.J.M.博曼 , M.托思 , S.兰多夫 , D.H.纳鲁姆

IPC分类号： H01L21/768 , H01L21/3213

CPC分类号： H01J37/20 , C25D5/003 , C25D5/02 , C25D5/026 , C25D5/04 , C25D17/005 , C25D17/10 , C25D17/12 , C25D21/04 , C25D21/12 , H01J37/18 , H01J37/222 , H01J37/28 , H01J2237/182 , H01J2237/2003 , H01J2237/202 , H01J2237/2801

摘要： 本发明涉及小结构的局部真空中修改。使用一种电荷转移机制来针对小结构来局部淀积或去除材料。创建局部电化学电池而不必将整个工件浸入浴中。电荷转移机制可以与荷电粒子束或激光系统一起使用以修改小结构，诸如集成电路或微机电系统。电荷转移工艺可以在空气中执行，在一些实施例中可以在真空室中执行。

2.

发明授权
小结构的局部真空中修改有权

公开(公告)号：CN103066012B

公开(公告)日：2017-04-12

申请号：CN201210345182.7

申请日：2012-09-18

申请人： FEI 公司

发明人： A.P.J.M.博曼 , M.托思 , S.兰多夫 , D.H.纳鲁姆

IPC分类号： H01L21/768 , H01L21/3213

CPC分类号： H01J37/20 , C25D5/003 , C25D5/02 , C25D5/026 , C25D5/04 , C25D17/005 , C25D17/10 , C25D17/12 , C25D21/04 , C25D21/12 , H01J37/18 , H01J37/222 , H01J37/28 , H01J2237/182 , H01J2237/2003 , H01J2237/202 , H01J2237/2801

摘要： 本发明涉及小结构的局部真空中修改。使用一种电荷转移机制来针对小结构来局部淀积或去除材料。创建局部电化学电池而不必将整个工件浸入浴中。电荷转移机制可以与荷电粒子束或激光系统一起使用以修改小结构，诸如集成电路或微机电系统。电荷转移工艺可以在空气中执行，在一些实施例中可以在真空室中执行。