公开(公告)号：CN118891713A

公开(公告)日：2024-11-01

申请号：CN202280092176.7

申请日：2022-03-25

Applicant: EV 集团 E·索尔纳有限责任公司

Inventor： M·温普林格 ,  T·乌赫曼 ,  J·布格拉夫 ,  B·波瓦扎伊 ,  B·塔尔纳

IPC: H01L21/78 ,  H01L21/683

Abstract: 本发明涉及一种方法和基板系统，用于通过照射分离层将载体基板与基板、尤其是产品基板分离。

公开(公告)号：CN118672074A

公开(公告)日：2024-09-20

申请号：CN202410927426.5

申请日：2018-06-19

Applicant: EV 集团 E·索尔纳有限责任公司

Inventor： B·塔尔纳 ,  B·波瓦扎伊

IPC: G03F7/20

Abstract: 本发明涉及一种用于借助于光学系统对在基板上的由光敏材料(18)组成的光敏层(19)的像点(1)进行曝光的方法，该方法具有以下特征：‑使像点(1)相对于光学系统连续移动，‑借助于光学系统针对每个像点(1)的单曝光来单个地控制多个次级光束(16)，其方式是将次级光束(16)要么转入至开启状态中要么转入至关闭状态中，其中a)次级光束(16)在开启状态中引起分配给相应的次级光束(16)的像点(1)的单曝光，并且b)次级光束(16)在关闭状态中不引起分配给相应的次级光束(16)的像点(1)的单曝光，‑其中为了产生具有灰色调的像点(1)，由不同的次级光束(16)以单剂量D执行n>1次单曝光，其中每个像点(1)的灰色调G由单剂量D的总和来定义。此外，本发明涉及一种对应的设备。

公开(公告)号：CN115698858A

公开(公告)日：2023-02-03

申请号：CN202080102021.8

申请日：2020-07-06

Applicant: EV 集团 E·索尔纳有限责任公司

Inventor： B·塔尔纳 ,  B·波瓦扎 ,  T·曾格 ,  T·乌赫曼

IPC: G03F7/20 ,  G03F7/095

Abstract: 本发明系关于一种用于曝光一光敏涂层之方法及装置。