等离子处理装置
    3.
    发明授权

    公开(公告)号:CN103155718B

    公开(公告)日:2016-09-28

    申请号:CN201080068816.8

    申请日:2010-09-06

    CPC classification number: H01J37/32082 H01J37/3211 H05H1/46 H05H2001/4652

    Abstract: 本发明目的在于廉价地提供一种维护检修容易且能够稳定地供给等离子的内部天线方式的等离子处理装置。本发明的等离子处理装置具备在真空容器(11)的上壁(111)上设置多个的天线单元(20),天线单元(20)具备:从真空容器(11)的上壁(111)向真空容器(11)内凸出地设置的电介质制的框体(21);具有将框体内的气氛向真空容器的外部排出的第二气体排出口(25)的盖(22);以及经由馈通体(24)而固定于盖(22)且在管壁上具有气体通过孔(232)的由导体管构成的高频天线(23)。向高频天线(23)的管内供给不活泼气体,通过气体通过孔(232)而将框体(21)的内部充满,通过第二气体排出口(25)向真空容器(11)的外部排出。

    等离子处理装置
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN103155718A

    公开(公告)日:2013-06-12

    申请号:CN201080068816.8

    申请日:2010-09-06

    CPC classification number: H01J37/32082 H01J37/3211 H05H1/46 H05H2001/4652

    Abstract: 本发明目的在于廉价地提供一种维护检修容易且能够稳定地供给等离子的内部天线方式的等离子处理装置。本发明的等离子处理装置具备在真空容器(11)的上壁(111)上设置多个的天线单元(20),天线单元(20)具备:从真空容器(11)的上壁(111)向真空容器(11)内凸出地设置的电介质制的框体(21);具有将框体内的气氛向真空容器的外部排出的第二气体排出口(25)的盖(22);以及经由馈通体(24)而固定于盖(22)且在管壁上具有气体通过孔(232)的由导体管构成的高频天线(23)。向高频天线(23)的管内供给不活泼气体,通过气体通过孔(232)而将框体(21)的内部充满,通过第二气体排出口(25)向真空容器(11)的外部排出。

    溅镀装置
    5.
    发明公开

    公开(公告)号:CN102812153A

    公开(公告)日:2012-12-05

    申请号:CN201180011521.1

    申请日:2011-03-08

    CPC classification number: C23C14/3407 C23C14/3464 H01J37/34 H01J37/3488

    Abstract: 本发明的目的在于提供一种溅镀装置,能够使高密度的等离子体高效地产生于溅镀靶表面,从而能够高速度成膜。并且,本发明的目的在于提供一种构造简单且溅镀靶的装卸及保养检查等较为容易的大面积溅镀装置及等离子体处理装置。本发明的溅镀装置是在真空容器的一部分安装有感应耦合型天线导体板的溅镀装置,其中;将溅镀靶板安装于上述感应耦合型天线导体的等离子体形成空间侧,将上述天线导体的一侧的瑞部连接至高频电源,且经由电容器而使相对置的另一侧的端部接地。另外,一并设置多个天线导体而构成大面积溅镀装置。

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