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    用于制造三维物体的方法及利用所述方法的立体平板印刷机
    1.
    发明公开
    用于制造三维物体的方法及利用所述方法的立体平板印刷机 有权

    公开(公告)号：CN103313840A

    公开(公告)日：2013-09-18

    申请号：CN201280005591.0

    申请日：2012-01-18

    Applicant: DWS有限公司

    Inventor： 塞尔焦·泽内雷 ,  罗伯托·福尔图纳托

    IPC: B29C67/00

    CPC classification number: B29C67/0066 ,  B29C64/135 ,  B29C64/386 ,  B33Y10/00 ,  B33Y30/00

    Abstract: 用于通过立体平板印刷机（1）分层制造三维物体的方法包括适合于容纳液态物质（3）的容器（2）；适合于发射预定的辐射（4）的发射装置（5），该发射装置（5）适合于选择性地固化邻近于容器（2）的底部（2a）的液态物质（3）的层（6）；致动器装置（8），其适合于使固化层（6a）相对于底部（2a）移动。该方法包括下列操作：选择性地固化液态层（6）；通过适合于使固化层（6a）与底部（2a）彼此远离地移动的运动（11）而使固化层（6a）与底部（2a）分离开，该运动（11）包括对应的预定长度（13、13a、13b、13c）的多个位移（12、12a、12b、12c），这多个位移（12、12a、12b、12c）被对应的预定的时间间隔（15、15a、15b）的对应的中间停止（14、14a、14b）间隔开。在固化层（6a）已与底部（2a）完全分离开之前，执行中间停止（14、14a、14b）。

    用于制造三维物体的方法及利用所述方法的立体平板印刷机
    3.
    发明授权
    用于制造三维物体的方法及利用所述方法的立体平板印刷机 有权

    公开(公告)号：CN103313840B

    公开(公告)日：2016-03-02

    申请号：CN201280005591.0

    申请日：2012-01-18

    Applicant: DWS有限公司

    Inventor： 塞尔焦·泽内雷 ,  罗伯托·福尔图纳托

    IPC: B29C67/00

    CPC classification number: B29C67/0066 ,  B29C64/135 ,  B29C64/386 ,  B33Y10/00 ,  B33Y30/00

    Abstract: 用于通过立体平板印刷机（1）分层制造三维物体的方法包括适合于容纳液态物质（3）的容器（2）；适合于发射预定的辐射（4）的发射装置（5），该发射装置（5）适合于选择性地固化邻近于容器（2）的底部（2a）的液态物质（3）的层（6）；致动器装置（8），其适合于使固化层（6a）相对于底部（2a）移动。该方法包括下列操作：选择性地固化液态层（6）；通过适合于使固化层（6a）与底部（2a）彼此远离地移动的运动（11）而使固化层（6a）与底部（2a）分离开，该运动（11）包括对应的预定长度（13、13a、13b、13c）的多个位移（12、12a、12b、12c），这多个位移（12、12a、12b、12c）被对应的预定的时间间隔（15、15a、15b）的对应的中间停止（14、14a、14b）间隔开。在固化层（6a）已与底部（2a）完全分离开之前，执行中间停止（14、14a、14b）。

    用于控制属于立体光刻机的至少两个光辐射源的活性的改进方法
    4.
    发明授权
    用于控制属于立体光刻机的至少两个光辐射源的活性的改进方法 失效

    公开(公告)号：CN106660272B

    公开(公告)日：2018-09-11

    申请号：CN201580041445.7

    申请日：2015-07-13

    Applicant: DWS有限公司

    Inventor： 罗伯托·福尔图纳托

    IPC: B29C64/393 ,  B33Y50/02 ,  B29C64/129 ,  B29C64/153

    Abstract: 本发明是用于控制属于立体光刻机(1)的两个光辐射源(2，3)的活性以通过立体光刻来生产三维物体(200)的方法，所述两个光辐射源(2，3)适于在立体光刻机(1)的工作表面(100)上限定的叠加区域(101)的部分(104)的水平处起作用。针对在所述部分(104)内的限定三维物体(200)的每个层(201)的具有总长度L的线(210)中的每一条线，所述方法提供：针对线(210)的具有长度X的第一段(211)激活第一光辐射源(2)；针对线(210)的具有长度Y的剩下的第二段(212)激活第二光辐射源(3)，其中第一段(211)的值X是在区间0

    包括垂直补偿处理的立体光刻方法及适于执行所述方法的设备和计算机程序产品
    7.
    发明授权
    包括垂直补偿处理的立体光刻方法及适于执行所述方法的设备和计算机程序产品 有权

    公开(公告)号：CN106536164B

    公开(公告)日：2019-05-17

    申请号：CN201580035255.4

    申请日：2015-06-18

    Applicant: DWS有限公司

    Inventor： 罗伯托·福尔图纳托

    IPC: B29C64/124 ,  B29C64/386 ,  B33Y10/00 ,  B33Y50/00

    Abstract: 本发明涉及通过叠加一连串层来制造三维对象的立体光刻方法，所述层使液体材料曝光于预定辐射而固化来获得，方法包括以下操作：限定层的几何表示；在一连串层中选择参考层之前的层；限定掩模区域，其对应于参考层平面上再现的选择层的几何表示与参考层的几何表示的逻辑连接；在掩模区域中将液体材料曝光于预定辐射。根据方法，在限定掩模区域之前，修改选择层的几何表示以使用相对于修改前配置的相应层的几何表示突出的相应附加部分来延伸选择层的几何表示，附加部分被限定成补偿由预定辐射在液体材料中向下渗透到与层对应的深度引起的预定辐射对液体材料的固化效果减小，以便三维对象在一组层固化之后获得的部分的轮廓更精确逼近三维对象的轮廓。

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