Invention Grant
- Patent Title: 包括垂直补偿处理的立体光刻方法及适于执行所述方法的设备和计算机程序产品
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Application No.: CN201580035255.4Application Date: 2015-06-18
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Publication No.: CN106536164BPublication Date: 2019-05-17
- Inventor: 罗伯托·福尔图纳托
- Applicant: DWS有限公司
- Applicant Address: 意大利维琴察
- Assignee: DWS有限公司
- Current Assignee: DWS有限公司
- Current Assignee Address: 意大利维琴察
- Agency: 北京集佳知识产权代理有限公司
- Agent 唐京桥; 陈炜
- International Application: PCT/IB2015/054601 2015.06.18
- International Announcement: WO2016/001787 EN 2016.01.07
- Date entered country: 2016-12-28
- Main IPC: B29C64/124
- IPC: B29C64/124 ; B29C64/386 ; B33Y10/00 ; B33Y50/00

Abstract:
本发明涉及通过叠加一连串层来制造三维对象的立体光刻方法,所述层使液体材料曝光于预定辐射而固化来获得,方法包括以下操作:限定层的几何表示;在一连串层中选择参考层之前的层;限定掩模区域,其对应于参考层平面上再现的选择层的几何表示与参考层的几何表示的逻辑连接;在掩模区域中将液体材料曝光于预定辐射。根据方法,在限定掩模区域之前,修改选择层的几何表示以使用相对于修改前配置的相应层的几何表示突出的相应附加部分来延伸选择层的几何表示,附加部分被限定成补偿由预定辐射在液体材料中向下渗透到与层对应的深度引起的预定辐射对液体材料的固化效果减小,以便三维对象在一组层固化之后获得的部分的轮廓更精确逼近三维对象的轮廓。
Public/Granted literature
- CN106536164A 包括垂直补偿处理的立体光刻方法及适于执行所述方法的设备和计算机程序产品 Public/Granted day:2017-03-22
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IPC分类: