公开(公告)号：CN101233454B

公开(公告)日：2010-08-25

申请号：CN200680028086.2

申请日：2006-06-13

申请人： ASML荷兰有限公司

发明人： 马库斯·艾德里纳斯·范德柯克霍夫 ,  威廉姆斯·皮卓斯·德波艾 ,  亨瑞克斯·罗伯特斯·玛丽·范格瑞文波奥克 ,  迈克·弗兰索斯·休伯特·克拉森 ,  海考·维克特·考克 ,  马提基恩·杰勒德·多米尼克·维瑞恩斯 ,  坦摩·尤特迪基克 ,  威廉姆斯·贾克布斯·玛丽安·罗奥杰卡斯 ,  约翰内斯·玛丽安·库普 ,  利昂·范道仁 ,  雅各布·桑尼威尔德 ,  欧文·约翰内斯·马丁内斯·吉林

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G01M11/0264 ,  G03F7/70566 ,  G03F7/706 ,  G03F7/7085

摘要： 公开了一种光刻设备，包括被配置用于调节辐射束的照射系统；被配置用于至少部分地连接到掩模版台的偏振传感器，其中所述掩模版偏振传感器的部件可以以用于常规的掩模版的方式在光刻设备中被加载和卸载。在一种配置中，主动式掩模版工具包括被配置用于改变施加给从照射系统中的场点接收到的偏振光的推迟的可旋转推迟器。在另一配置中，被动式掩模版工具被配置为偏振传感器模块阵列，其中由固定的推迟器施加给接收光的推迟量根据偏振传感器模块的位置而变化。相应地，可以测量对于在给定场点上接收到的光的多个推迟条件，其中可以完全确定在所给定的场点上的光的偏振状态。在另一配置中，偏振传感器被配置用于测量投影透镜对于通过投影透镜的光的偏振状态的影响。

公开(公告)号：CN101253452A

公开(公告)日：2008-08-27

申请号：CN200680028187.X

申请日：2006-06-13

申请人： ASML荷兰有限公司

发明人： 马库斯·艾德里纳斯·范德柯克霍夫 ,  威廉姆斯·皮卓斯·德波艾 ,  亨瑞克斯·罗伯特斯·玛丽·范格瑞文波奥克 ,  迈克·弗兰索斯·休伯特·克拉森 ,  海考·维克特·考克 ,  马提基恩·杰勒德·多米尼克·维瑞恩斯 ,  坦摩·尤特迪基克 ,  威廉姆斯·贾克布斯·玛丽安·罗奥杰卡斯 ,  约翰内斯·玛丽安·库普 ,  利昂·范道仁 ,  雅各布·桑尼威尔德 ,  欧文·约翰内斯·马丁内斯·吉林

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G01M11/0264 ,  G03F7/70566 ,  G03F7/706 ,  G03F7/7085

摘要： 公开了一种光刻设备，包括被配置用于调节辐射束的照射系统；被配置用于至少部分地连接到掩模版台的偏振传感器，其中所述掩模版偏振传感器的部件可以以用于常规的掩模版的方式在光刻设备中被加载和卸载。在一种配置中，主动式掩模版工具包括被配置用于改变施加给从照射系统中的场点接收到的偏振光的推迟的可旋转推迟器。在另一配置中，被动式掩模版工具被配置为偏振传感器模块阵列，其中由固定的推迟器施加给接收光的推迟量根据偏振传感器模块的位置而变化。相应地，可以测量对于在给定场点上接收到的光的多个推迟条件，其中可以完全确定在所给定的场点上的光的偏振状态。在另一配置中，偏振传感器被配置用于测量投影透镜对于通过投影透镜的光的偏振状态的影响。

公开(公告)号：CN101233455A

公开(公告)日：2008-07-30

申请号：CN200680028157.9

申请日：2006-06-13

申请人： ASML荷兰有限公司

发明人： 马库斯·艾德里纳斯·范德柯克霍夫 ,  威廉姆斯·皮卓斯·德波艾 ,  亨瑞克斯·罗伯特斯·玛丽·范格瑞文波奥克 ,  迈克·弗兰索斯·休伯特·克拉森 ,  海考·维克特·考克 ,  马提基恩·杰勒德·多米尼克·维瑞恩斯 ,  坦摩·尤特迪基克 ,  威廉姆斯·贾克布斯·玛丽安·罗奥杰卡斯 ,  约翰内斯·玛丽安·库普 ,  利昂·范道仁 ,  雅各布·桑尼威尔德 ,  欧文·约翰内斯·马丁内斯·吉林

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G01M11/0264 ,  G03F7/70566 ,  G03F7/706 ,  G03F7/7085

摘要： 公开了一种光刻设备，包括被配置用于调节辐射束的照射系统；被配置用于至少部分地连接到掩模版台的偏振传感器，其中所述掩模版偏振传感器的部件可以以用于常规的掩模版的方式在光刻设备中被加载和卸载。在一种配置中，主动式掩模版工具包括被配置用于改变施加给从照射系统中的场点接收到的偏振光的推迟的可旋转推迟器。在另一配置中，被动式掩模版工具被配置为偏振传感器模块阵列，其中由固定的推迟器施加给接收光的推迟量根据偏振传感器模块的位置而变化。相应地，可以测量对于在给定场点上接收到的光的多个推迟条件，其中可以完全确定在所给定的场点上的光的偏振状态。在另一配置中，偏振传感器被配置用于测量投影透镜对于通过投影透镜的光的偏振状态的影响。

公开(公告)号：CN101233454A

公开(公告)日：2008-07-30

申请号：CN200680028086.2

申请日：2006-06-13

申请人： ASML荷兰有限公司

发明人： 马库斯·艾德里纳斯·范德柯克霍夫 ,  威廉姆斯·皮卓斯·德波艾 ,  亨瑞克斯·罗伯特斯·玛丽·范格瑞文波奥克 ,  迈克·弗兰索斯·休伯特·克拉森 ,  海考·维克特·考克 ,  马提基恩·杰勒德·多米尼克·维瑞恩斯 ,  坦摩·尤特迪基克 ,  威廉姆斯·贾克布斯·玛丽安·罗奥杰卡斯 ,  约翰内斯·玛丽安·库普 ,  利昂·范道仁 ,  雅各布·桑尼威尔德 ,  欧文·约翰内斯·马丁内斯·吉林

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G01M11/0264 ,  G03F7/70566 ,  G03F7/706 ,  G03F7/7085

摘要： 公开了一种光刻设备，包括被配置用于调节辐射束的照射系统；被配置用于至少部分地连接到掩模版台的偏振传感器，其中所述掩模版偏振传感器的部件可以以用于常规的掩模版的方式在光刻设备中被加载和卸载。在一种配置中，主动式掩模版工具包括被配置用于改变施加给从照射系统中的场点接收到的偏振光的推迟的可旋转推迟器。在另一配置中，被动式掩模版工具被配置为偏振传感器模块阵列，其中由固定的推迟器施加给接收光的推迟量根据偏振传感器模块的位置而变化。相应地，可以测量对于在给定场点上接收到的光的多个推迟条件，其中可以完全确定在所给定的场点上的光的偏振状态。在另一配置中，偏振传感器被配置用于测量投影透镜对于通过投影透镜的光的偏振状态的影响。

公开(公告)号：CN101253451B

公开(公告)日：2010-09-29

申请号：CN200680028087.7

申请日：2006-06-13

申请人： ASML荷兰有限公司

发明人： 马库斯·艾德里纳斯·范德柯克霍夫 ,  威廉姆斯·皮卓斯·德波艾 ,  亨瑞克斯·罗伯特斯·玛丽·范格瑞文波奥克 ,  迈克·弗兰索斯·休伯特·克拉森 ,  海考·维克特·考克 ,  马提基恩·杰勒德·多米尼克·维瑞恩斯 ,  坦摩·尤特迪基克 ,  威廉姆斯·贾克布斯·玛丽安·罗奥杰卡斯 ,  约翰内斯·玛丽安·库普 ,  利昂·范道仁 ,  雅各布·桑尼威尔德 ,  欧文·约翰内斯·马丁内斯·吉林

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G01M11/0264 ,  G03F7/70566 ,  G03F7/706 ,  G03F7/7085

摘要： 公开了一种光刻设备，包括被配置用于调节辐射束的照射系统；被配置用于至少部分地连接到掩模版台的偏振传感器，其中所述掩模版偏振传感器的部件可以以用于常规的掩模版的方式在光刻设备中被加载和卸载。在一种配置中，主动式掩模版工具包括被配置用于改变施加给从照射系统中的场点接收到的偏振光的推迟的可旋转推迟器。在另一配置中，被动式掩模版工具被配置为偏振传感器模块阵列，其中由固定的推迟器施加给接收光的推迟量根据偏振传感器模块的位置而变化。相应地，可以测量对于在给定场点上接收到的光的多个推迟条件，其中可以完全确定在所给定的场点上的光的偏振状态。在另一配置中，偏振传感器被配置用于测量投影透镜对于通过投影透镜的光的偏振状态的影响。

公开(公告)号：CN101253451A

公开(公告)日：2008-08-27

申请号：CN200680028087.7

申请日：2006-06-13

申请人： ASML荷兰有限公司

发明人： 马库斯·艾德里纳斯·范德柯克霍夫 ,  威廉姆斯·皮卓斯·德波艾 ,  亨瑞克斯·罗伯特斯·玛丽·范格瑞文波奥克 ,  迈克·弗兰索斯·休伯特·克拉森 ,  海考·维克特·考克 ,  马提基恩·杰勒德·多米尼克·维瑞恩斯 ,  坦摩·尤特迪基克 ,  威廉姆斯·贾克布斯·玛丽安·罗奥杰卡斯 ,  约翰内斯·玛丽安·库普 ,  利昂·范道仁 ,  雅各布·桑尼威尔德 ,  欧文·约翰内斯·马丁内斯·吉林

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G01M11/0264 ,  G03F7/70566 ,  G03F7/706 ,  G03F7/7085

摘要： 公开了一种光刻设备，包括被配置用于调节辐射束的照射系统；被配置用于至少部分地连接到掩模版台的偏振传感器，其中所述掩模版偏振传感器的部件可以以用于常规的掩模版的方式在光刻设备中被加载和卸载。在一种配置中，主动式掩模版工具包括被配置用于改变施加给从照射系统中的场点接收到的偏振光的推迟的可旋转推迟器。在另一配置中，被动式掩模版工具被配置为偏振传感器模块阵列，其中由固定的推迟器施加给接收光的推迟量根据偏振传感器模块的位置而变化。相应地，可以测量对于在给定场点上接收到的光的多个推迟条件，其中可以完全确定在所给定的场点上的光的偏振状态。在另一配置中，偏振传感器被配置用于测量投影透镜对于通过投影透镜的光的偏振状态的影响。