-
公开(公告)号:CN110596793B
公开(公告)日:2022-06-14
申请号:CN201910510243.2
申请日:2019-06-13
Applicant: AGC株式会社
IPC: G02B1/115
Abstract: 本发明提供不仅抑制对于从垂直方向入射的光的反射率,而且还抑制对于从倾斜方向入射的光的反射率,进而,即使在从倾斜方向入射的情况下也可得到中性的反射色调的光学层叠体。本发明提供一种光学层叠体,其特征在于,具备基材、设置于基材的一个面的防反射膜和设置于基材的另一个面的遮光膜,所述光学层叠体满足全部下述(i)~(iii)的特性。(i)0.5<R(λ1a,θ1a)/R(λ1b,θ1b)<1.5,(ii)Y(θ2)≤3%,(iii)Y(θ3)≤10%,在此,R(λ,θ)为波长λnm的光以角度θ入射时的反射率,λ1a=380nm,θ1a=60°,λ1b=650nm,θ1b=60°。Y(θ)为入射角度θ的视感反射率,θ2=5°,θ3=60°。
-
公开(公告)号:CN107255841B
公开(公告)日:2020-01-03
申请号:CN201710389832.0
申请日:2013-11-25
Applicant: AGC株式会社
IPC: G02B5/26 , G02B5/28 , G03B11/00 , H01L31/0216 , H01L27/146
Abstract: 近红外线截止滤波器根据光的入射角而具有以下的光谱透射率特性。光的入射角为0度时,在450nm以上且小于550nm的波长范围的至少一部分具有与450nm~700nm的波长范围的平均透射率的透射率之差为1.65%以上的部分。光的入射角为40度时,在450nm以上且小于550nm的波长范围的至少一部分具有与450nm~700nm的波长范围的平均透射率的透射率之差为3.5%以上的部分。另外,光的入射角为40度时,在450nm以上且小于550nm的波长范围的整个区域,与450nm~700nm的波长范围的平均透射率的透射率之差为7.0%以下。
-
公开(公告)号:CN110596793A
公开(公告)日:2019-12-20
申请号:CN201910510243.2
申请日:2019-06-13
Applicant: AGC株式会社
IPC: G02B1/115
Abstract: 本发明提供不仅抑制对于从垂直方向入射的光的反射率,而且还抑制对于从倾斜方向入射的光的反射率,进而,即使在从倾斜方向入射的情况下也可得到中性的反射色调的光学层叠体。本发明提供一种光学层叠体,其特征在于,具备基材、设置于基材的一个面的防反射膜和设置于基材的另一个面的遮光膜,所述光学层叠体满足全部下述(i)~(iii)的特性。(i)0.5<R(λ1a,θ1a)/R(λ1b,θ1b)<1.5,(ii)Y(θ2)≤3%,(iii)Y(θ3)≤10%,在此,R(λ,θ)为波长λnm的光以角度θ入射时的反射率,λ1a=380nm,θ1a=60°,λ1b=650nm,θ1b=60°。Y(θ)为入射角度θ的视感反射率,θ2=5°,θ3=60°。
-
公开(公告)号:CN111684316B
公开(公告)日:2023-06-20
申请号:CN201980012031.X
申请日:2019-02-05
Applicant: AGC株式会社
Abstract: 一种带防眩膜的透明基体,具有具备第1主面和第2主面的透明基体、和形成在第1主面上的防眩膜,防眩膜由低折射率层、和形成在低折射率层中且折射率与低折射率层不同的高折射率层构成,低折射率层的波长550nm的折射率nlow为1.4~1.8,高折射率层的波长550nm的折射率nhigh比nlow高0.1以上,相对于第1主面的面倾斜度成为0.5°以下的部位的面积比为15%以下,第1主面侧最表面的粗糙曲线要素的平均长度RSm为50μm以下。
-
公开(公告)号:CN111948744B
公开(公告)日:2023-05-09
申请号:CN202010684848.6
申请日:2016-11-15
Applicant: AGC株式会社
Abstract: 本申请涉及带膜的弯曲基材及其制造方法以及图像显示装置。本发明涉及一种带膜的弯曲基材,其特征在于,具备:具有第一主面、第二主面和端面的基材、以及设置在所述第一主面上的防眩膜,所述基材具有平坦部和弯曲部,弯曲部的反射像扩散性指标值R除以弯曲部的反射像扩散性指标值R与平坦部的反射像扩散性指标值R之和而得到的值为0.3以上且0.8以下。
-
公开(公告)号:CN111727178A
公开(公告)日:2020-09-29
申请号:CN201980013503.3
申请日:2019-02-13
Applicant: AGC株式会社
IPC: C03C17/30 , B32B7/025 , B32B17/06 , C03C3/083 , C03C3/085 , C03C3/087 , C03C3/091 , C03C3/097 , C03C15/00 , C03C17/34 , C03C17/42 , C03C21/00 , G02F1/1333
Abstract: 本发明的目的在于提供在显示装置的厚度和制造工序数都不增加的情况下能够防止白浊化的玻璃盖片和内嵌式液晶显示装置。本发明涉及一种玻璃盖片,其具备:具有面积为12000mm2以上的第1主面和第2主面的化学强化玻璃、以及设置于第1主面的防指纹处理层,化学强化玻璃的DOL为20μm以上,拉伸应力层的P2O5的含量为2摩尔%以下,A×B为135以上,防指纹处理层表面的摩擦带电量为-1.5kV~0kV。
-
公开(公告)号:CN111727177A
公开(公告)日:2020-09-29
申请号:CN201980013211.X
申请日:2019-02-13
Applicant: AGC株式会社
IPC: C03C17/30 , B32B7/025 , B32B17/06 , C03C3/083 , C03C3/085 , C03C3/087 , C03C3/091 , C03C3/097 , C03C15/00 , C03C17/34 , C03C17/42 , C03C21/00 , G02F1/1333
Abstract: 本发明的目的在于提供一种在厚度、用于制造的工序数都不増加的情况下能够防止白色浑浊、耐冲击性也优异的保护玻璃和内嵌(In-cell)式液晶显示装置。本发明涉及一种保护玻璃,其具有:化学强化玻璃,所述化学强化玻璃具有第一主面和第二主面;以及防指纹处理层,所述防指纹处理层设置在第一主面上,化学强化玻璃的拉应力层所含有的全部碱金属中Li的摩尔数最多,DOL为60μm以上,防指纹处理层的表面的摩擦带电量为0kV以下且-1.5kV以上。
-
公开(公告)号:CN111727178B
公开(公告)日:2023-08-22
申请号:CN201980013503.3
申请日:2019-02-13
Applicant: AGC株式会社
IPC: C03C17/30 , B32B7/025 , B32B17/06 , C03C3/083 , C03C3/085 , C03C3/087 , C03C3/091 , C03C3/097 , C03C15/00 , C03C17/34 , C03C17/42 , C03C21/00 , G02F1/1333
Abstract: 本发明的目的在于提供在显示装置的厚度和制造工序数都不增加的情况下能够防止白浊化的玻璃盖片和内嵌式液晶显示装置。本发明涉及一种玻璃盖片,其具备:具有面积为12000mm2以上的第1主面和第2主面的化学强化玻璃、以及设置于第1主面的防指纹处理层,化学强化玻璃的DOL为20μm以上,拉伸应力层的P2O5的含量为2摩尔%以下,A×B为135以上,防指纹处理层表面的摩擦带电量为-1.5kV~0kV。
-
公开(公告)号:CN111727177B
公开(公告)日:2023-06-02
申请号:CN201980013211.X
申请日:2019-02-13
Applicant: AGC株式会社
IPC: C03C17/30 , B32B7/025 , B32B17/06 , C03C3/083 , C03C3/085 , C03C3/087 , C03C3/091 , C03C3/097 , C03C15/00 , C03C17/34 , C03C17/42 , C03C21/00 , G02F1/1333
Abstract: 本发明的目的在于提供一种在厚度、用于制造的工序数都不増加的情况下能够防止白色浑浊、耐冲击性也优异的保护玻璃和内嵌(In‑cell)式液晶显示装置。本发明涉及一种保护玻璃,其具有:化学强化玻璃,所述化学强化玻璃具有第一主面和第二主面;以及防指纹处理层,所述防指纹处理层设置在第一主面上,化学强化玻璃的拉应力层所含有的全部碱金属中Li的摩尔数最多,DOL为60μm以上,防指纹处理层的表面的摩擦带电量为0kV以下且‑1.5kV以上。
-
公开(公告)号:CN110187422A
公开(公告)日:2019-08-30
申请号:CN201910126118.1
申请日:2019-02-20
Applicant: AGC株式会社
IPC: G02B5/02
Abstract: 本发明涉及一种透光性结构体,所述透光性结构体具有如下表面凹凸形状,与平面所成的角度为0~0.5度的表面平坦区域面积率为0%以上且5.8%以下,凸部密度为0.0001个/μm2以上且0.05个/μm2以下,凸部面积率为5.5%以上且50%以下,偏斜度(偏度)Ssk为-0.5以上且1.1以下,将突出峰部与中心部分离的负载面积率Smr1为0%以上且14.5%以下,并且算术平均表面粗糙度Sa为0.06μm以上且0.143μm以下。
-
-
-
-
-
-
-
-
-