利用超分子的自组装和金属着色制备纳米芯片的方法

    公开(公告)号:CN1572721A

    公开(公告)日:2005-02-02

    申请号:CN200410047553.9

    申请日:2004-05-21

    IPC分类号: B82B3/00

    CPC分类号: C12Q1/6837 B82Y5/00

    摘要: 本发明涉及一种生成纳米尺度的或更小尺度的图形的方法,其包含下述步骤:在基底上生成超分子薄膜,通过退火来诱导超分子的自组装从而形成规则结构,利用金属对所述规则结构进行选择性着色,然后蚀刻金属着色的薄膜。本发明还涉及一种制备纳米芯片的方法,该方法包含将生物受体与所形成的超分子纳米芯片或者基底相连接的步骤。