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公开(公告)号:CN108028173A
公开(公告)日:2018-05-11
申请号:CN201680055118.1
申请日:2016-07-18
Applicant: 霍尼韦尔国际公司
Inventor: J.A.邓洛普 , K.T.休伯特 , J.C.鲁兹卡 , A.N.A.雷格 , M.D.布隆德尔 , W.P.贾迪 , P.F.约翰 , E.P.拉拉 , W.D.迈尔 , A.P.道布 , S.A.巴克哈特 , T.C.琼蒂拉
IPC: H01L21/02 , H01L21/203
Abstract: 用于供物理气相沉积装置使用的高表面积线圈包括第一表面。第一表面的至少部分具有表面粗糙度在大约15μm和大约150μm之间的宏观织构。第一表面的至少部分具有表面粗糙度在大约2μm和15μm之间的微观织构。