公开(公告)号：CN119054051A

公开(公告)日：2024-11-29

申请号：CN202280091166.1

申请日：2022-03-30

Applicant: 雅马哈智能机器控股株式会社 ,  栗田工业株式会社

Inventor： 菊地广 ,  李瑾 ,  井田纯一

IPC: H01L21/304 ,  B23K20/24 ,  H01L21/02 ,  H01L21/52

Abstract: 一种电子零件清洗方法，对晶片的表面进行清洗，所述电子零件清洗方法包括：湿式清洗工序(S102～S104)，利用氢水与纯水对晶片的表面进行湿式清洗；干式清洗工序(S109)，在湿式清洗后，利用大气压等离子体对电子零件的表面进行干式清洗；以及氢水处理工序(S113)，在干式清洗工序之后，使用将氢气溶解于水中而成的氢水对晶片的表面进行清洗。

公开(公告)号：CN118985041A

公开(公告)日：2024-11-19

申请号：CN202280094661.8

申请日：2022-06-10

Applicant: 雅马哈智能机器控股株式会社 ,  学校法人东京理科大学

Inventor： 菊地广 ,  李瑾 ,  宗像广志 ,  永田宪雅 ,  宫武正明

IPC: H01L21/52

Abstract: 本发明的产品保持装置包括：载台(32)，载置产品；以及振动元件(38)，对被载置于所述载台(32)的所述产品(100)赋予超声波振动，使掉落下来的异物(110)在远离所述产品(100)的表面的位置飘起。而且，产品保持装置(30)还包括：移送机构(42)，将飘起的所述异物(110)移送至俯视时处于所述产品(100)的外侧的位置；以及回收机构(50)，回收所移送的所述异物(110)。