公开(公告)号：CN1912999A

公开(公告)日：2007-02-14

申请号：CN200610105858.X

申请日：2006-07-13

Applicant: 阿尔卑斯电气株式会社

Inventor： 遁所淳 ,  田中伸一

IPC: G11B5/187 ,  G11B5/31 ,  G11B5/60 ,  G11B21/21

CPC classification number: G11B5/6005

Abstract: 提供薄膜磁头滑块的ABS加工方法，能使抗蚀剂的密合性提高，精度良好地规定ABS凹凸形状。首先，在作为薄膜磁头滑块的与介质相对的面的面上，顺序地层叠形成第1硅膜、第1碳膜、第2硅膜、以及第2碳膜，在该第2碳膜上形成用于形成突起的抗蚀剂图形。接着，进行使用O2/CF4的反应性离子蚀刻，除去不被用于形成突起的抗蚀剂图形覆盖的第2碳膜以及第2硅膜，在除去部分露出的第1碳膜上形成第3碳膜。接着，除去用于形成突起的抗蚀剂图形，使由第2硅膜以及第2碳膜构成的突起露出。然后，在突起以及第3碳膜露出的表面上形成ABS抗蚀剂图形，加工从该ABS抗蚀剂图形中露出的表面，赋予ABS凹凸形状。