一种激光原位辅助单晶金刚石典型晶面的研磨方法

    公开(公告)号:CN110682209B

    公开(公告)日:2022-03-29

    申请号:CN201910847236.1

    申请日:2019-09-09

    Abstract: 本发明公开了一种激光原位辅助单晶金刚石典型晶面的研磨方法,该方法根据研磨单晶金刚石研磨面的难磨方向选择合适的激光器类型,将所选择的激光束光斑形状与单晶金刚石研磨面的难磨方向相匹配;激光器发出的激光束从研磨出来的单晶金刚石透光面射入,照射在单晶金刚石研磨面的难磨方向上,使单晶金刚石研磨面的难磨方向吸收激光能量,并通过热传导的方式对整个研磨面进行加热,最终使单晶金刚石研磨面难磨方向的硬度发生软化,并通过研磨盘对其进行高效研磨。

    一种钻石切割装置
    2.
    发明授权

    公开(公告)号:CN110027125B

    公开(公告)日:2022-03-29

    申请号:CN201910396886.9

    申请日:2019-05-14

    Abstract: 本发明涉及一种钻石切割装置,属于钻石切割领域,包括锯片定位装置,钻石位姿调整装置,方形轴,激光器,三向力传感器,配重调整装置等。利用钻石的竖直下落,对钻石进行垂直切割,可以稳定地实现钻石易切晶向上的直线切割,减小刀痕的产生;并采用激光对钻石的切出部位进行加热,通过配合锯片切割的耦合热应力作用有效提高钻石切出部位的抗崩边能力;同时通过三向力传感器可以检测切割过程中耦合切割力的变化,及时反馈对切割配重、激光工艺参数的控制,从而保证加工质量、提高切割效率、降低生产成本。

    一种激光原位辅助单晶金刚石典型晶面的研磨方法

    公开(公告)号:CN110682209A

    公开(公告)日:2020-01-14

    申请号:CN201910847236.1

    申请日:2019-09-09

    Abstract: 本发明公开了一种激光原位辅助单晶金刚石典型晶面的研磨方法,该方法根据研磨单晶金刚石研磨面的难磨方向选择合适的激光器类型,将所选择的激光束光斑形状与单晶金刚石研磨面的难磨方向相匹配;激光器发出的激光束从研磨出来的单晶金刚石透光面射入,照射在单晶金刚石研磨面的难磨方向上,使单晶金刚石研磨面的难磨方向吸收激光能量,并通过热传导的方式对整个研磨面进行加热,最终使单晶金刚石研磨面难磨方向的硬度发生软化,并通过研磨盘对其进行高效研磨。

    一种采用双圆锥形圆弧刻刀进行无空行程机械刻划衍射光栅的方法

    公开(公告)号:CN110308505A

    公开(公告)日:2019-10-08

    申请号:CN201910607762.0

    申请日:2019-07-10

    Abstract: 本发明公开了一种采用双圆锥形圆弧刻刀无空行程进行机械刻划衍射光栅的方法,其特征在于:在刻划光栅的过程中,刀架带动双圆锥形圆弧刻刀刻完一个槽后,刀架抬刀并横向进给一个光栅槽距,无需调整双圆锥形圆弧刻刀安装角度直接落刀并反方向刻划,直至刻划完指定的光栅槽形,所述双圆锥形圆弧刻刀的安装方位角、俯仰角为零,滚转角根据实际工艺给定。本发明利用双圆锥形圆弧刻刀的结构、安装和成形特点,直接在原有返回空行程过程中进行有效刻划,避免了返回空行程的产生,在刀架反方向移动的时候也完成了刻划,有效缩短了机械刻划衍射光栅的总体时间,提高了机械刻划衍射光栅的加工效率,降低了生产成本。

    一种钻石切割装置
    5.
    发明公开

    公开(公告)号:CN110027125A

    公开(公告)日:2019-07-19

    申请号:CN201910396886.9

    申请日:2019-05-14

    Abstract: 本发明涉及一种钻石切割装置,属于钻石切割领域,包括锯片定位装置,钻石位姿调整装置,方形轴,激光器,三向力传感器,配重调整装置等。利用钻石的竖直下落,对钻石进行垂直切割,可以稳定地实现钻石易切晶向上的直线切割,减小刀痕的产生;并采用激光对钻石的切出部位进行加热,通过配合锯片切割的耦合热应力作用有效提高钻石切出部位的抗崩边能力;同时通过三向力传感器可以检测切割过程中耦合切割力的变化,及时反馈对切割配重、激光工艺参数的控制,从而保证加工质量、提高切割效率、降低生产成本。

    一种大口径平行光管主反射镜的磁悬浮支撑系统

    公开(公告)号:CN102185540A

    公开(公告)日:2011-09-14

    申请号:CN201110120182.2

    申请日:2011-05-11

    Abstract: 一种大口径平行光管主反射镜的磁悬浮支撑系统,本发明涉及大孔径平行光管检测系统,其原理简图如摘要附图所示。它属于光电检测技术领域。在大口径长焦距光学系统中,大口径主镜的自重对于面形的影响很大,难以克服。本发明将磁悬浮原理应用于主反射镜的支撑,该系统由控制电路、信号调整电路、传感器、功率放大器、定位磁铁组成。主镜需要特殊制造。该系统是一个典型的非线性系统,通过改变电流而改变电磁力。当主反射镜稳定时,由位置传感器检测各参考点位置与理想参考位置的偏差信号,并通过反馈与理想参考位置信号相比较,调节控制器根据面型偏差信号进行调节,并通过功率放大器来改变电磁铁的电流,从而改变电磁铁与主反射镜之间的电磁力,在电磁力的作用下,直到主反射镜各参考点与理想参考位置重合。

    一种用于单轴光学系统光轴的标定方法及装置

    公开(公告)号:CN109990986B

    公开(公告)日:2020-11-24

    申请号:CN201910382333.8

    申请日:2019-05-09

    Abstract: 一种用于单轴光学系统光轴的标定方法及装置,涉及光轴标定技术,为了解决现有技术的问题,平行光管一、分光镜一、分光镜二、补偿镜、平行光管二、CCD成像接收系统一和CCD成像接收系统二;平行光管一、待测光学系统、平行光管二依次同轴设置,分光镜一置于待测光学系统的物方焦点处,且与光轴呈45°放置;分光镜二置于待测光学系统的像方焦点处,且与光轴呈135°放置;待测光学系统位于可沿轴向移动的平行光管一和平行光管二中间;补偿镜置于分光镜二与平行光管二之间;CCD成像接收系统一和CCD成像接收系统二分别位于分光镜一和分光镜二的正下方。本发明装置简单且便于调节,适用于多数单轴光学系统的光轴标定。

    一种用于单轴光学系统光轴的标定方法及装置

    公开(公告)号:CN109990986A

    公开(公告)日:2019-07-09

    申请号:CN201910382333.8

    申请日:2019-05-09

    Abstract: 一种用于单轴光学系统光轴的标定方法及装置,涉及光轴标定技术,为了解决现有技术的问题,平行光管一、分光镜一、分光镜二、补偿镜、平行光管二、CCD成像接收系统一和CCD成像接收系统二;平行光管一、待测光学系统、平行光管二依次同轴设置,分光镜一置于待测光学系统的物方焦点处,且与光轴呈45°放置;分光镜二置于待测光学系统的像方焦点处,且与光轴呈135°放置;待测光学系统位于可沿轴向移动的平行光管一和平行光管二中间;补偿镜置于分光镜二与平行光管二之间;CCD成像接收系统一和CCD成像接收系统二分别位于分光镜一和分光镜二的正下方。本发明装置简单且便于调节,适用于多数单轴光学系统的光轴标定。

    一种金刚石摆动粗磨装置

    公开(公告)号:CN112318360A

    公开(公告)日:2021-02-05

    申请号:CN202011208845.1

    申请日:2020-11-03

    Abstract: 本发明适用于金刚石研磨领域,提供了一种金刚石摆动粗磨装置,包括用于固定金刚石的固定组件,用于对金刚石施加荷载的加载组件,用于驱动所述固定组件往复摆动的往复摆动组件。本发明利用研磨盘转动过程中内径与外径之间的线速度不同,对金刚石进行摆动粗磨,可以在保证加工表面质量的同时提高粗磨效率。其次,本发明通过配合使用压缩弹簧、压力传感器及声发射传感器,解决了传统粗磨方式加载压力及振感无法进行数字化显示与监控问题,能及时反馈对粗磨工艺参数的控制,从而保证加工质量、提高切割效率、降低生产成本。

    一种潜望式变焦手机镜头
    10.
    发明公开

    公开(公告)号:CN109061857A

    公开(公告)日:2018-12-21

    申请号:CN201811198255.8

    申请日:2018-10-15

    Inventor: 韩旭 牛学飞

    CPC classification number: G02B15/167 H04N5/225

    Abstract: 一种潜望式变焦手机镜头,属于变焦光学技术领域,为了解决现有潜望式镜头无法实现前后光学变焦的问题,该镜头包括前置前固定组、后置前固定组、棱镜组、变倍组、补偿组、后固定组和图像传感器;前置前固定组和后置前固定组同轴设置,且光轴与同轴设置的变倍组、补偿组和后固定组的光轴垂直;图像传感器设置在后固定组的后面,用于接收图像;所述棱镜组包含前反射棱镜与后反射棱镜,可以在垂直于变倍组光轴的方向移动;当移动棱镜组使前反射棱镜中心与变倍组光轴重合时,图像传感器成前置前固定组前面物的像;当移动棱镜组使后反射棱镜中心与变倍组光轴重合时,系统成后置前固定组前面物的像,应用于同时具有前置和后置镜头的手机、平板电脑等。

Patent Agency Ranking