公开(公告)号：CN104073767A

公开(公告)日：2014-10-01

申请号：CN201410279632.6

申请日：2014-06-20

Applicant: 钢铁研究总院

Inventor： 夏振军 ,  何峻 ,  欧修龙 ,  安静 ,  赵栋梁 ,  强游

IPC: C23C14/32 ,  B82Y40/00

Abstract: 一种均匀、高致密度纳米颗粒薄膜的制备装置和方法，该装置包括溅射靶枪(3)、基片(15)、样品台(16)、溅射室(1)、过渡室(10)、沉积室(25)、高电压系统(27)、过渡室真空系统(28)和沉积室真空系统(31)，本发明的关键在于，通过在衬底上施加电压，吸引由气相团簇束流源产生的等离子纳米颗粒束流中与施加电场电性相反的颗粒，使其加速撞向基底，促进沉积颗粒的密集堆积。通过电机驱动使样品台旋转，粒子高速、均匀地沉积在基片表面，形成均匀、高致密度的薄膜。

公开(公告)号：CN104073767B

公开(公告)日：2016-08-17

申请号：CN201410279632.6

申请日：2014-06-20

Applicant: 钢铁研究总院

Inventor： 夏振军 ,  何峻 ,  欧修龙 ,  安静 ,  赵栋梁 ,  强游

IPC: C23C14/32 ,  B82Y40/00

Abstract: 一种均匀、高致密度纳米颗粒薄膜的制备装置和方法，该装置包括溅射靶枪(3)、基片(15)、样品台(16)、溅射室(1)、过渡室(10)、沉积室(25)、高电压系统(27)、过渡室真空系统(28)和沉积室真空系统(31)，本发明的关键在于，通过在衬底上施加电压，吸引由气相团簇束流源产生的等离子纳米颗粒束流中与施加电场电性相反的颗粒，使其加速撞向基底，促进沉积颗粒的密集堆积。通过电机驱动使样品台旋转，粒子高速、均匀地沉积在基片表面，形成均匀、高致密度的薄膜。