一种阴极辊精密研磨抛光方法

    公开(公告)号:CN111761418A

    公开(公告)日:2020-10-13

    申请号:CN202010428167.3

    申请日:2020-05-20

    Abstract: 本发明公开了一种阴极辊精密研磨抛光方法,包括:研磨环境为密闭无尘,用纯水浸泡抛光轮;采用粒度为60目抛光轮、120目抛光轮依次进行表面粗磨;采用粒度为320目抛光轮、600目抛光轮依次进行表面精磨;对经精磨的阴极辊进行表面清洗;采用粒度为800目抛光轮、1000目抛光轮依次对阴极辊进行表面精抛;对阴极辊进行表面清洗。本发明工艺所形成的阴极辊,表面粗糙度在0.2μm以下,具有一定镜面效果,生产运行周期长,产品晶体致密。

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