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公开(公告)号:CN104328395B
公开(公告)日:2016-08-24
申请号:CN201410550742.1
申请日:2014-10-17
Applicant: 金川集团股份有限公司
IPC: C23C18/36
Abstract: 一种中磷化学镀镍浓缩液及施镀工艺,浓缩液分为A液、B液和C液三部分:将主盐、光亮剂、加速剂和去离子水常温混合成A液;将第一缓冲剂、第一络合剂、次磷酸钠、稳定剂、聚乙二醇6000、光亮剂和去离子水常温混合成B液;将第二缓冲剂、第二络合剂、次磷酸钠、稳定剂、聚乙二醇6000、加速剂、光亮剂、氨水和去离子水常温混合成C液;A液和B液用于开槽,A液和C液用于补加。按体积百分比,混合A液、B液和稀释水;成化学镀镍液;施镀,镀镍液镍含量低于4.0g/L,补加A液和C液。用该浓缩液镀镍时,沉积速率快,镀层硬度及耐磨性较高,适用于铝合金、各类铁合金、铜合金、镍铁合金、镍铜合金及一些非导电基体的化学镀镍。
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公开(公告)号:CN105331472A
公开(公告)日:2016-02-17
申请号:CN201510803713.6
申请日:2015-11-20
Applicant: 金川集团股份有限公司
IPC: C11D10/02
Abstract: 一种电镀零件碱性电解清洗剂及清洗方法,涉及一种金属工件电镀前的除油除锈剂及方法。一种电镀零件碱性电解清洗剂,其碱性电解清洗剂的质量百分比组成包括:纯碱40%,偏硅酸钠15%,葡萄糖酸钠25%,磷酸三钠15%,非离子型表面活性剂NP-6为5%。清洗过程是将电镀零件在用电镀零件碱性电解清洗剂配成的溶液中进行电解清洗。本发明的提供了一种具有除油除锈效果好、操作简单方便、配制成本低、除油除锈速度快等特点的电镀零件碱性电解清洗剂和清洗方法,适用于清洗钢铁、铜、黄铜和锌零件表面的油污及除锈,具有润滑保护功能减少了零件的磨损,使用时浓度和温度低的优点。
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公开(公告)号:CN104294242A
公开(公告)日:2015-01-21
申请号:CN201410551032.0
申请日:2014-10-17
Applicant: 金川集团股份有限公司
IPC: C23C18/36
CPC classification number: C23C18/36
Abstract: 一种高磷化学镀镍浓缩液及施镀工艺,该浓缩液分为A液、B液和C液三部分:A液为硫酸镍溶液;常温下将第一缓冲剂、第一络合剂、次磷酸钠、稳定剂、聚乙二醇6000、光亮剂和去离子水混合成B液;常温下将第二缓冲剂、第二络合剂、还原剂、稳定剂、聚乙二醇6000、加速剂、光亮剂、pH调节剂和去离子水混合成C液;A液和B液用于开槽,A液和C液用于补加。按体积百分比,混合A液、B液和稀释水;形成pH值为4.7~5.2的化学镀镍液;施镀,镀镍液中镍含量低于4.0g/L,补加A液和C液。用该镀镍浓缩液镀镍时,镀件沉积速率快,稳定性好,镀层的硬度及耐磨性较高,适用于钎焊、点焊以及沉积厚镀层方面的应用。
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公开(公告)号:CN117466348A
公开(公告)日:2024-01-30
申请号:CN202311569205.7
申请日:2023-11-23
Applicant: 金川集团镍盐有限公司 , 金川集团股份有限公司
Abstract: 一种硫酸镍溶液除硅的方法,包括如下步骤:(1)吸附过程;(2)沉淀过程;(3)浆化循环过程;(4)除硅渣再利用过程。本发明为可循环使用的、绿色的、经济的、利用吸附—共沉淀的硫酸镍溶液除硅技术,将硫酸镍溶液中硅含量降低至0.006g/L以下,同时可去除溶液中铁、铜离子,一是满足在市场中客户的接收标准,二是减少蒸发、结晶过程中所产生的硅酸盐以及二氧化硅沉淀,且除硅过程不引入其他杂质,能够提升产品质量,稳定蒸发效率。本发明工艺操作简单,工艺参数稳定,提高了硫酸镍产品的质量,增强了环保效益,具有较高的经济效益和实用价值。
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公开(公告)号:CN109019706A
公开(公告)日:2018-12-18
申请号:CN201810783485.4
申请日:2018-07-17
Applicant: 金川集团股份有限公司
Abstract: 本发明的一种利用废镍合金生产硫酸镍和硫酸钴的方法包括以下步骤:(1)将废镍合金溶解得到第一废镍合金溶解液;(2)将第一废镍合金溶解液除铁得到第二废镍合金溶解液和黄钠铁矾渣;(3)对黄钠铁矾渣再次回收利用后的过滤液并入第二废镍合金溶解液得到第三废镍合金溶解液;(4)向第三废镍合金溶解液加入碳酸钠调节pH值后进行萃取,得到第一萃余液和第一萃取液,第一萃余液经蒸发结晶后用于生产硫酸镍,第一萃取液经过反萃取得到的第二萃余液再经过萃取处理得到第三萃余液,第三萃余液用于生产硫酸钴。本发明对有价金属回收再利用具有重要意义。
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公开(公告)号:CN108946826A
公开(公告)日:2018-12-07
申请号:CN201810855039.X
申请日:2018-07-31
Applicant: 金川集团股份有限公司
IPC: C01G51/10
Abstract: 本发明公开了一种处理含镍硫酸钴溶液中铜、锰杂质的方法,包括步骤:1)调节含镍硫酸钴原料液pH;2)制备P204钴皂:将萃取剂P204和稀释剂磺化煤油混合,依次加入NaOH溶液和钴皂前液,有机相为P204钴皂;3)利用P204钴皂萃取除铜、锰:将P204钴皂加入到硫酸钴原料液中,萃取,硫酸钴原料液中的铜、锰转入有机相,钴、镍保留到水相中,水相为含钴、镍的P204萃余液;4)洗钴:使未完全反应的P204钴皂中的钴转到水相中;5)反萃取:产出含钴低于1.0g/L的氯化盐反萃液。本发明能够有效地将铜、锰杂质从含镍硫酸钴溶液中除去,且不会引入其他杂质,产出的产品质量达到生产精制硫酸钴或精制氯化钴需求。
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公开(公告)号:CN104294242B
公开(公告)日:2017-05-31
申请号:CN201410551032.0
申请日:2014-10-17
Applicant: 金川集团股份有限公司
IPC: C23C18/36
Abstract: 一种用高磷化学镀镍浓缩液进行镀镍的施镀工艺,该浓缩液分为A液、B液和C液三部分:A液为硫酸镍溶液;常温下将第一缓冲剂、第一络合剂、次磷酸钠、稳定剂、聚乙二醇 6000、光亮剂和去离子水混合成B液;常温下将第二缓冲剂、第二络合剂、还原剂、稳定剂、聚乙二醇 6000、加速剂、光亮剂、pH调节剂和去离子水混合成C液;A液和B液用于开槽,A液和C液用于补加。按体积百分比,混合A液、B液和稀释水;形成pH值为4.7~5.2的化学镀镍液;施镀,镀镍液中镍含量低于4.0g/L,补加A液和C液。用该镀镍浓缩液镀镍时,镀件沉积速率快,稳定性好,镀层的硬度及耐磨性较高,适用于钎焊、点焊以及沉积厚镀层方面的应用。
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公开(公告)号:CN104294241A
公开(公告)日:2015-01-21
申请号:CN201410551372.3
申请日:2014-10-17
Applicant: 金川集团股份有限公司
IPC: C23C18/32
CPC classification number: C23C18/32
Abstract: 本发明提供了一种化学镀镍装置及方法,所述化学镀镍装置包括槽体、空气压缩机和循环过滤机,所述槽体内设有电加热管,所述电加热管与设在槽体外的温度控制器相连接,所述空气压缩机连接有空气管,所述空气管的末端伸入于槽体底部,所述循环过滤机的两端连接有进液管和出液管,所述进液管与槽体底部相连通,所述出液管伸入于槽体内。本发明化学镀镍装置的槽体采用高纯聚丙烯制作,避免了槽体导热性差、槽体强度差的缺点,整个镀镍过程中,无任何金属物质与化学镀镍液接触,避免了槽体内和镀镍装置其他部件上沉积镍磷;由于空气搅拌和循环过滤的作用,所得镀层光亮、平整、细致、无麻点。
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公开(公告)号:CN118458851A
公开(公告)日:2024-08-09
申请号:CN202410639642.X
申请日:2024-05-22
Applicant: 金川集团股份有限公司 , 金川集团镍盐有限公司
IPC: C01G53/10
Abstract: 本发明涉及一种镍盐体系中联合除硅的方法,该方法包括以下步骤:⑴将硅含量为40~60ppm、Ni2+浓度为90~120g/L的含硅的硫酸镍溶液加至反应釜中,在40~48℃条件下进行搅拌,并控制pH值在2.0~4.5的范围内;⑵按Si质量含量的20~100倍计,将除硅剂通过计量泵由反应釜底部加入,并控制添加速率在200~260mL/h,添加完成后反应持续30~60min,即得除硅后硫酸镍溶液;⑶所述除硅后硫酸镍溶液经过滤后采用2台串联树脂柱进行深度除硅,即得硅含量小于0.5ppm的硫酸镍溶液。本发明工艺过程简单,能深度去除硫酸镍溶液中的杂质硅,且除硅过程中金属镍损失量小,具有较高的经济效益。
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公开(公告)号:CN109022822A
公开(公告)日:2018-12-18
申请号:CN201810735653.2
申请日:2018-07-06
Applicant: 金川集团股份有限公司
Abstract: 本发明公开了一种处理硫酸钴溶液中镍、镉杂质的方法,包括步骤:1)调节硫酸钴原料液pH值;2)制备P507镍皂:将萃取剂P507和稀释剂磺化煤油混合,依次使用工业NaOH(浓度为30%或45%)和镍皂前液,进行逆流萃取,形成的有机相为P507镍皂;3)萃取:用P507镍皂萃取钴、镉;4)洗涤:用稀盐酸洗镍镉;5)反萃取:用稀盐酸或稀硫酸进行反萃取,产出氯化钴或硫酸钴溶液。本发明能够有效地将镍、镉杂质从硫酸钴溶液中除去,工艺简单、可靠、可操作性强,镍、镉等多种杂质的去除效果好,且不会引入其他杂质,有着较好的经济价值。
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