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公开(公告)号:CN107845567A
公开(公告)日:2018-03-27
申请号:CN201710876844.6
申请日:2017-09-25
Applicant: 重庆文理学院
IPC: H01L21/02 , H01L29/165
CPC classification number: H01L21/02378 , H01L21/02527 , H01L21/02529 , H01L21/02609 , H01L21/02664 , H01L29/165
Abstract: 本发明涉及一种石墨烯双异质结及其制备方法,其中,制备方法包括:(a)选取衬底材料;(b)在所述衬底材料表面生长3C-SiC外延层;(c)热解所述3C-SiC外延层形成石墨烯层以完成所述石墨烯双异质结的制备。本发明制备的石墨烯/3C-SiC/4H-SiC双异质结结构,能带差异很大,但石墨烯/3C-SiC/4H-SiC三者之间的晶格匹配非常好,因此三者之间不需要过渡层即可实现低缺陷的双异质结制备;本发明所有生长过程均可以用一台设备完成,有利于成本的降。