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公开(公告)号：CN118125384A
公开(公告)日：2024-06-04
申请号：CN202410271405.2
申请日：2024-03-11
Applicant: 重庆文理学院
IPC: C01B19/00
Abstract: 一种高均匀性分散碲化物纳米片的制备方法，具体是将铋盐、锡盐或锑盐和碲盐作为前体，表面活性剂聚乙烯吡咯烷酮，溶解于溶剂乙二醇中形成反应液，置于反应釜中进行搅拌加热合成，待冷却至室温，然后洗涤离心得悬浊液，将悬浊液进行旋涂处理，然后进行冷冻干燥，加热合成过程中对反应液进行扰流处理，具体是在反应釜中引入对称分布有2齿、4齿或6齿的圆弧形扰动齿、底部置有扰流磁子的扰流内衬。本发明中通过引入扰流处理和旋涂处理，制得尺寸均匀性优异的碲化物纳米片，纳米片表面直径的尺寸分布范围跨度达到20nm左右，并通过旋涂结合冷冻干燥处理，有效解决了纳米片破损、团聚的问题，最终获得形貌完整、不破损、不团聚的单分散碲化铋纳米片结构。
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