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公开(公告)号:CN110702717B
公开(公告)日:2022-05-10
申请号:CN201910975698.1
申请日:2019-10-15
Applicant: 重庆大学
IPC: G01N23/2202 , G01N23/2204 , G01N1/28 , G01N23/22 , G01N23/04
Abstract: 本发明属于透射电子显微镜技术领域,公开了一种用于透射电镜切片样品和切片转移装置的制备方法,包括以下步骤:(1)样品头粗修;(2)精修;(3)切片前准备;(4)超薄切片(厚度通常小于50nm);(5)样品转移至加热芯片加热区。本发明主要用于透射电镜超薄切片样品的制备,解决了透射电镜原位加热过程中样品定点转移至芯片加热区域困难的问题。
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公开(公告)号:CN110702717A
公开(公告)日:2020-01-17
申请号:CN201910975698.1
申请日:2019-10-15
Applicant: 重庆大学
IPC: G01N23/2202 , G01N23/2204 , G01N1/28 , G01N23/22 , G01N23/04
Abstract: 本发明属于透射电子显微镜技术领域,公开了一种用于透射电镜切片样品和切片转移装置的制备方法,包括以下步骤:(1)样品头粗修;(2)精修;(3)切片前准备;(4)超薄切片(厚度通常小于50nm);(5)样品转移至加热芯片加热区。本发明主要用于透射电镜超薄切片样品的制备,解决了透射电镜原位加热过程中样品定点转移至芯片加热区域困难的问题。
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