公开(公告)号：CN114214679B

公开(公告)日：2023-07-21

申请号：CN202210015280.8

申请日：2022-01-07

Applicant: 重庆大学

Inventor： 黎学明 ,  龚子雯 ,  周善斌 ,  熊路 ,  杨文静

IPC: C25D3/46 ,  C25D21/12

Abstract: 无氰光亮镀银溶液及电镀方法。电镀银溶液包括：10‑30g/L硝酸银；10‑80g/L 2，4‑咪唑啉二酮；40‑100g/L 5，5‑二甲基乙内酰脲；40‑100g/L碳酸钾；以及0.3‑2g/L聚乙二醇。本发明利用特别设计的无氰镀银溶液，并采用脉冲电流，从而在铜基底尤其是紫铜基底上获得了结合力及镀层表面性能均为优异的银镀层。

公开(公告)号：CN113235066A

公开(公告)日：2021-08-10

申请号：CN202110545544.6

申请日：2021-05-19

Applicant: 重庆大学

Inventor： 黎学明 ,  曾旭钟 ,  杨文静 ,  王丹 ,  杨磊 ,  熊路

IPC: C23C16/18 ,  C23C16/44 ,  C23C16/448 ,  C23C16/46

Abstract: 有机铂族金属化学气相沉积装置和方法。该装置包括控温室以及位于控温室上方的真空沉积室。控温室中设置有：有机铂族金属升华器；载气盘管，设置有载气控制阀并与升华器的底部连通；以及反应气盘管，设置有反应气控制阀。主管道从升华器顶部延伸至真空沉积室底部以将二者相互连通，并设置有位于控温室中的主管道控制阀。反应气盘管与主管道控制阀上部的主管道部分连通。真空沉积室中设置有电加热体，电加热体的加热底面适于设置待沉积基底。根据本发明的CVD装置，在真空沉积室中利用电加热体对待沉积基底进行局部直接加热(冷壁沉积)，并使得混合气体近距离直对待沉积基底，使得沉积精准高效。另外，在控温室中加热升华器时，还利用盘管对载气和反应气进行了同步加热，防止物料在管路中凝结堵塞，从而进一步提高了沉积效率。

公开(公告)号：CN114214679A

公开(公告)日：2022-03-22

申请号：CN202210015280.8

申请日：2022-01-07

Applicant: 重庆大学

Inventor： 黎学明 ,  龚子雯 ,  周善斌 ,  熊路 ,  杨文静

IPC: C25D3/46 ,  C25D21/12

Abstract: 无氰光亮镀银溶液及电镀方法。电镀银溶液包括：10‑30g/L硝酸银；10‑80g/L 2，4‑咪唑啉二酮；40‑100g/L 5，5‑二甲基乙内酰脲；40‑100g/L碳酸钾；以及0.3‑2g/L聚乙二醇。本发明利用特别设计的无氰镀银溶液，并采用脉冲电流，从而在铜基底尤其是紫铜基底上获得了结合力及镀层表面性能均为优异的银镀层。