公开(公告)号：CN101185385A

公开(公告)日：2008-05-21

申请号：CN200680018965.7

申请日：2006-05-26

Applicant: 大日本油墨化学工业株式会社 ,  郡是株式会社

Inventor： 末永涉 ,  冈田淳 ,  谷村功太郎

IPC: H05K9/00 ,  G09F9/00

CPC classification number: H05K9/0096 ,  H01J2211/446 ,  Y10T428/25

Abstract: 本发明的电磁波屏蔽材料的制造方法，其特征在于，将包含表面被氧化银覆盖的银颗粒、粘合剂以及溶剂的导电性糊剂成几何学图案地丝网印刷到具有透明多孔层的透明性树脂基材的该透明多孔层表面，然后加热处理，以在该透明多孔层表面形成几何学图案的导电部，其中，所述透明多孔层含有选自氧化物陶瓷、非氧化物陶瓷和金属所组成的组中的至少一种作为主要成分。由该制造方法制造的电磁波屏蔽材料的电磁波屏蔽效果高且透明性和透视性优异。

公开(公告)号：CN113459617A

公开(公告)日：2021-10-01

申请号：CN202110339742.7

申请日：2021-03-30

Applicant: 郡是株式会社

Inventor： 池田拓也 ,  谷村功太郎

IPC: B32B27/30 ,  B32B27/08 ,  B32B27/40

Abstract: 本发明涉及一种弯曲显示屏用的覆膜，其具有透明的基材层和叠层于上述基材层的一个表面的透明的表面层，上述基材层含有聚氨酯系(甲基)丙烯酸酯和2官能以上的(甲基)丙烯酸酯，上述表面层含有4官能以上的(甲基)丙烯酸酯，上述基材层含有50重量份以上的上述聚氨酯系(甲基)丙烯酸酯，上述表面层含有65重量份以上的上述4官能以上的(甲基)丙烯酸酯，上述表面层的厚度为40μm以上，上述基材层的厚度为45μm以上85μm以下。

公开(公告)号：CN111748274B

公开(公告)日：2023-04-07

申请号：CN202010227675.5

申请日：2020-03-27

Applicant: 郡是株式会社

Inventor： 池田拓也 ,  松原圭佑 ,  谷村功太郎 ,  城下知辉

IPC: B32B27/00

Abstract: 本发明提供一种高硬度并且耐弯曲性也高的覆膜。本发明所涉及的覆膜具有透明的基材膜、叠层于上述透明基材膜的至少一个表面的缓冲层和叠层于上述缓冲层上且由电离辐射固化性树脂形成的硬涂层，上述硬涂层的膜厚为50～250μm，上述缓冲层的膜厚为5～75μm。

公开(公告)号：CN111748274A

公开(公告)日：2020-10-09

申请号：CN202010227675.5

申请日：2020-03-27

Applicant: 郡是株式会社

Inventor： 池田拓也 ,  松原圭佑 ,  谷村功太郎 ,  城下知辉

IPC: C09D175/14 ,  C08J7/046

Abstract: 本发明提供一种高硬度并且耐弯曲性也高的覆膜。本发明所涉及的覆膜具有透明的基材膜、叠层于上述透明基材膜的至少一个表面的缓冲层和叠层于上述缓冲层上且由电离辐射固化性树脂形成的硬涂层，上述硬涂层的膜厚为50～250μm，上述缓冲层的膜厚为5～75μm。

公开(公告)号：CN101185385B

公开(公告)日：2010-06-16

申请号：CN200680018965.7

申请日：2006-05-26

Applicant: 大日本油墨化学工业株式会社 ,  郡是株式会社

Inventor： 末永涉 ,  冈田淳 ,  谷村功太郎

IPC: H05K9/00 ,  G09F9/00

CPC classification number: H05K9/0096 ,  H01J2211/446 ,  Y10T428/25

Abstract: 本发明的电磁波屏蔽材料的制造方法，其特征在于，将包含表面被氧化银覆盖的银颗粒、粘合剂以及溶剂的导电性糊剂成几何学图案地丝网印刷到具有透明多孔层的透明性树脂基材的该透明多孔层表面，然后加热处理，以在该透明多孔层表面形成几何学图案的导电部，其中，所述透明多孔层含有选自氧化物陶瓷、非氧化物陶瓷和金属所组成的组中的至少一种作为主要成分。由该制造方法制造的电磁波屏蔽材料的电磁波屏蔽效果高且透明性和透视性优异。