公开(公告)号：CN102399456A

公开(公告)日：2012-04-04

申请号：CN201110266521.8

申请日：2011-08-31

Applicant: 通用电气公司

Inventor： A.纳塔拉延 ,  E.M.金 ,  V.H.沃金斯 ,  J.L.李 ,  P.J.麦克罗斯基 ,  陈国邦 ,  M.J.米斯纳 ,  V.P.奥斯特罗弗霍夫

IPC: C09B69/10 ,  G11B7/248 ,  G11B7/247 ,  G11B7/246

CPC classification number: G11B7/245 ,  G11B7/24044 ,  G11B7/246

Abstract: 本发明涉及光学介质(140)和这类介质(140)的形成和用途。在某些实施方案中，所述光学介质(140)或适于这类介质的组合物包含聚合物基质或衬底。诸如能量传递染料的染料诸如通过一个或多个共价键化学附接到所述聚合物基质或衬底上。

公开(公告)号：CN110494239A

公开(公告)日：2019-11-22

申请号：CN201880025271.9

申请日：2018-01-24

Applicant: 通用电气公司

Inventor： J.H.卡普 ,  V.P.奥斯特罗弗霍夫

IPC: B22F3/105 ,  H01S3/23 ,  H01S3/00

Abstract: 一种增材制造系统包括激光器阵列，该激光器阵列包括多个激光器装置。多个激光器装置中的各个激光器装置产生用于在粉末床中形成熔化池的能量束。增材制造系统进一步包括至少一个光学元件。光学元件接收能量束中的至少一个并且在至少一个能量束中引起预先确定的功率扩散。

公开(公告)号：CN102399456B

公开(公告)日：2014-11-05

申请号：CN201110266521.8

申请日：2011-08-31

Applicant: 通用电气公司

Inventor： A.纳塔拉延 ,  E.M.金 ,  V.H.沃金斯 ,  J.L.李 ,  P.J.麦克罗斯基 ,  陈国邦 ,  M.J.米斯纳 ,  V.P.奥斯特罗弗霍夫

IPC: C09B69/10 ,  G11B7/248 ,  G11B7/247 ,  G11B7/246

CPC classification number: G11B7/245 ,  G11B7/24044 ,  G11B7/246

Abstract: 本发明涉及光学介质(140)和这类介质(140)的形成和用途。在某些实施方案中，所述光学介质(140)或适于这类介质的组合物包含聚合物基质或衬底。诸如能量传递染料的染料诸如通过一个或多个共价键化学附接到所述聚合物基质或衬底上。

公开(公告)号：CN103578494A

公开(公告)日：2014-02-12

申请号：CN201310327845.7

申请日：2013-07-31

Applicant: 通用电气公司

Inventor： 史晓蕾 ,  J.A.F.罗斯 ,  V.P.奥斯特罗弗霍夫 ,  J.J.贝塞拉

IPC: G11B7/0065 ,  G11B7/007 ,  G11B7/24

CPC classification number: G11B7/0065 ,  G11B7/00772

Abstract: 本发明公开使用数据记录系统而实现的方法。该方法包括收容微全息数据存储介质，其包括具有第一横截面区域的微全息图轨道。该方法进一步包括将数据记录在微全息图轨道中以在具有小于第一横截面区域的第二横截面区域的微全息图轨道中形成数据轨道。

公开(公告)号：CN103578493A

公开(公告)日：2014-02-12

申请号：CN201310327617.X

申请日：2013-07-31

Applicant: 通用电气公司

Inventor： 史晓蕾 ,  E.P.博登 ,  陈国邦 ,  P.W.洛琳 ,  V.P.奥斯特罗弗霍夫 ,  赵日安

IPC: G11B7/0065 ,  G11B7/007 ,  G11B7/24038 ,  G11B7/24044

CPC classification number: G11B7/24038 ,  G11B7/26 ,  G11B2007/240025

Abstract: 本发明涉及一种堆叠膜阈构件、装置和制造方法。一种构件包括微全息图层，其中，微全息图层包括与功能膜层交错的对光呈惰性的层。功能膜层由在被光束照射时经历其折射率的变化而在被不同光束照射时不经历其折射率的变化的材料制成。构件还可包括与多个全息图层交错的隔膜和其它元件(例如，伺服层、涂层等)，以便包括数据存储装置。还公开了制造构件和装置的方法。