-
公开(公告)号：CN102456645A
公开(公告)日：2012-05-16
申请号：CN201110354647.0
申请日：2011-10-26
Applicant: 通用电气公司
Inventor： M·阿里克 , W·D·格斯特勒 , 李日 , P·C·B·萨拉帕肯 , B·P·华伦
IPC: H01L23/473 , H01L21/48
CPC classification number: H01L23/467 , B23P15/26 , B23P2700/10 , H01L21/4882 , H01L23/4735 , H01L2924/0002 , H05K7/20172 , Y10T29/4935 , H01L2924/00
Abstract: 本发明涉及一种热管理系统和方法。该热管理系统包括至少一个热沉，热沉包括一个或更多个相应的翼片，其中该一个或更多个翼片包括一个或更多个相应的腔。热管理系统还包括合成喷嘴堆，其包括安装在每个相应的腔内的至少一个合成喷嘴，采用至少一个接合结构以提供合成喷嘴堆在翼片内的刚性定位，其中合成喷嘴包括至少一个孔口，通过该孔口喷射流体。
-
公开(公告)号：CN101577144B
公开(公告)日：2014-08-13
申请号：CN200910145681.X
申请日：2009-05-08
Applicant: 通用电气公司
CPC classification number: F15D1/08 , H01L23/4735 , H01L2924/0002 , H05K7/20909 , H01L2924/00
Abstract: 本发明涉及用于合成射流增强自然冷却的系统及方法。具体而言，提供了一种构件外壳(100，300)。该构件外壳包括限定容积的一个或多个侧壁(102，302)，这些侧壁构造成用以大致包绕位于该容积内的发热构件(506)；以及位于至少一个侧壁附近的合成射流组件(304，600)，合成射流组件包括含有射流端口(306)的至少一个合成射流喷射器(502)，射流端口以垂直、平行和倾斜方式中的至少一种方式与该至少一个侧壁的表面(504)对齐，合成射流组件构造成用以引导流体射流(510)以大致与该表面平行、垂直于该表面以及朝向该表面倾斜中的至少一种穿过端口。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101435855A
公开(公告)日：2009-05-20
申请号：CN200810173883.0
申请日：2008-11-13
Applicant: 通用电气公司
IPC: G01R33/28 , G01R33/385
CPC classification number: G01R33/34 , G01R33/3403 , G01R33/3856
Abstract: 本发明涉及一种用于冷却磁共振成像设备的发热构件的热管理系统。具体而言，一种用于冷却磁共振成像(MRI)设备(10)的发热构件的热管理系统(70)包括至少一个热管(72)，其具有邻近诸如梯度线圈(54)和/或射频线圈(56)的发热构件而布置的部分。当从构件(50，56)中去除热时，位于热管(72)的相对较热端(90)中的工作流体(76)汽化，并且朝向该热管(72)的相对较冷端(92)行进。较冷端(92)可操作地联接到用于从较冷端(92)去除热的散热器(94，96)上，从而提高了系统(70)的总体效率。热管(72)可沿着水平方向、竖直方向和/或沿着发热构件(50，56)的对角线布置。
-
公开(公告)号：CN102456645B
公开(公告)日：2016-08-03
申请号：CN201110354647.0
申请日：2011-10-26
Applicant: 通用电气公司
Inventor： M·阿里克 , W·D·格斯特勒 , 李日 , P·C·B·萨拉帕肯 , B·P·华伦
IPC: H01L23/473 , H01L21/48
CPC classification number: H01L23/467 , B23P15/26 , B23P2700/10 , H01L21/4882 , H01L23/4735 , H01L2924/0002 , H05K7/20172 , Y10T29/4935 , H01L2924/00
Abstract: 本发明涉及一种热管理系统和方法。该热管理系统包括至少一个热沉，热沉包括一个或更多个相应的翼片，其中该一个或更多个翼片包括一个或更多个相应的腔。热管理系统还包括合成喷嘴堆，其包括安装在每个相应的腔内的至少一个合成喷嘴，采用至少一个接合结构以提供合成喷嘴堆在翼片内的刚性定位，其中合成喷嘴包括至少一个孔口，通过该孔口喷射流体。
-
公开(公告)号：CN102256471A
公开(公告)日：2011-11-23
申请号：CN201110109628.1
申请日：2011-04-14
Applicant: 通用电气公司
IPC: H05K7/20
CPC classification number: H05K7/20163 , H05K7/20172 , H05K7/20409
Abstract: 提供了一种带有分布式喷嘴冷却的机架(10)。该机架包括限定容积的一个或多个侧壁(12)，该容积构造成大体上包围位于该容积内的一个或多个发热部件。该机架还包括热连接到一个或多个侧壁中的相应一个侧壁上的至少一个鳍片(14)的阵列，以及至少一个合成喷口组件(30)，该至少一个合成喷口组件包括设置在该鳍片的阵列的相应一个鳍片的侧面(15，16)上的多孔合成喷嘴(30)或多个单孔合成喷嘴(2)。该机架还包括用于将所述至少一个合成喷口组件的相应一个附接到所述一个或多个侧壁的相应一个侧壁上的至少一个附接装置(4，6，9，11，20，44)。
-
公开(公告)号：CN102256471B
公开(公告)日：2015-09-30
申请号：CN201110109628.1
申请日：2011-04-14
Applicant: 通用电气公司
IPC: H05K7/20
CPC classification number: H05K7/20163 , H05K7/20172 , H05K7/20409
Abstract: 提供了一种带有分布式喷嘴冷却的机架(10)。该机架包括限定容积的一个或多个侧壁(12)，该容积构造成大体上包围位于该容积内的一个或多个发热部件。该机架还包括热连接到一个或多个侧壁中的相应一个侧壁上的至少一个鳍片(14)的阵列，以及至少一个合成喷口组件(30)，该至少一个合成喷口组件包括设置在该鳍片的阵列的相应一个鳍片的侧面(15，16)上的多孔合成喷嘴(30)或多个单孔合成喷嘴(2)。该机架还包括用于将所述至少一个合成喷口组件的相应一个附接到所述一个或多个侧壁的相应一个侧壁上的至少一个附接装置(4，6，9，11，20，44)。
-
公开(公告)号：CN101577144A
公开(公告)日：2009-11-11
申请号：CN200910145681.X
申请日：2009-05-08
Applicant: 通用电气公司
CPC classification number: F15D1/08 , H01L23/4735 , H01L2924/0002 , H05K7/20909 , H01L2924/00
Abstract: 本发明涉及用于合成射流增强自然冷却的系统及方法。具体而言，提供了一种构件外壳(100，300)。该构件外壳包括限定容积的一个或多个侧壁(102，302)，这些侧壁构造成用以大致包绕位于该容积内的发热构件(506)；以及位于至少一个侧壁附近的合成射流组件(304，600)，合成射流组件包括含有射流端口(306)的至少一个合成射流喷射器(502)，射流端口以垂直、平行和倾斜方式中的至少一种方式与该至少一个侧壁的表面(504)对齐，合成射流组件构造成用以引导流体射流(510)以大致与该表面平行、垂直于该表面以及朝向该表面倾斜中的至少一种穿过端口。
-
-
-
-
-
-
Search Results
7
records
(took 0.022 seconds)
