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公开(公告)号：CN102102686B
公开(公告)日：2015-06-17
申请号：CN201010615694.1
申请日：2010-12-16
Applicant: 通用电气公司
IPC: F04F5/00
CPC classification number: B05B17/0607 , F15D1/00 , F15D1/025 , F15D1/08 , Y10T29/49401
Abstract: 本发明涉及低频率的合成射流促动器及其制造方法。公开了一种用于降低合成射流促动器(50，76，82，88，96，100)的结构自然频率的系统和方法。提供了合成射流促动器，其包括第一板(52)、与第一板(52)隔开且布置成与其平行的第二板(54)，以及设置成以便使第一板(52)与第二板(54)隔开且与第一板和第二板(52，54)一起限定腔室(64)的间隔件元件(62，78，84，90，98，102)。间隔件元件包括形成于其中的至少一个孔(66)，使得腔室(64)与腔室(64)外部的环境(68)处于流体连通，而且间隔件元件构造成以便响应于第一板和第二板(52，54)中的至少一个的偏转而以弯曲运动来变形。
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公开(公告)号：CN102102686A
公开(公告)日：2011-06-22
申请号：CN201010615694.1
申请日：2010-12-16
Applicant: 通用电气公司
IPC: F04F5/00
CPC classification number: B05B17/0607 , F15D1/00 , F15D1/025 , F15D1/08 , Y10T29/49401
Abstract: 本发明涉及低频率的合成射流促动器及其制造方法。公开了一种用于降低合成射流促动器(50，76，82，88，96，100)的结构自然频率的系统和方法。提供了合成射流促动器，其包括第一板(52)、与第一板(52)隔开且布置成与其平行的第二板(54)，以及设置成以便使第一板(52)与第二板(54)隔开且与第一板和第二板(52，54)一起限定腔室(64)的间隔件元件(62，78，84，90，98，102)。间隔件元件包括形成于其中的至少一个孔(66)，使得腔室(64)与腔室(64)外部的环境(68)处于流体连通，而且间隔件元件构造成以便响应于第一板和第二板(52，54)中的至少一个的偏转而以弯曲运动来变形。
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公开(公告)号：CN102256471B
公开(公告)日：2015-09-30
申请号：CN201110109628.1
申请日：2011-04-14
Applicant: 通用电气公司
IPC: H05K7/20
CPC classification number: H05K7/20163 , H05K7/20172 , H05K7/20409
Abstract: 提供了一种带有分布式喷嘴冷却的机架(10)。该机架包括限定容积的一个或多个侧壁(12)，该容积构造成大体上包围位于该容积内的一个或多个发热部件。该机架还包括热连接到一个或多个侧壁中的相应一个侧壁上的至少一个鳍片(14)的阵列，以及至少一个合成喷口组件(30)，该至少一个合成喷口组件包括设置在该鳍片的阵列的相应一个鳍片的侧面(15，16)上的多孔合成喷嘴(30)或多个单孔合成喷嘴(2)。该机架还包括用于将所述至少一个合成喷口组件的相应一个附接到所述一个或多个侧壁的相应一个侧壁上的至少一个附接装置(4，6，9，11，20，44)。
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公开(公告)号：CN102256471A
公开(公告)日：2011-11-23
申请号：CN201110109628.1
申请日：2011-04-14
Applicant: 通用电气公司
IPC: H05K7/20
CPC classification number: H05K7/20163 , H05K7/20172 , H05K7/20409
Abstract: 提供了一种带有分布式喷嘴冷却的机架(10)。该机架包括限定容积的一个或多个侧壁(12)，该容积构造成大体上包围位于该容积内的一个或多个发热部件。该机架还包括热连接到一个或多个侧壁中的相应一个侧壁上的至少一个鳍片(14)的阵列，以及至少一个合成喷口组件(30)，该至少一个合成喷口组件包括设置在该鳍片的阵列的相应一个鳍片的侧面(15，16)上的多孔合成喷嘴(30)或多个单孔合成喷嘴(2)。该机架还包括用于将所述至少一个合成喷口组件的相应一个附接到所述一个或多个侧壁的相应一个侧壁上的至少一个附接装置(4，6，9，11，20，44)。
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