公开(公告)号：CN114290727B

公开(公告)日：2023-03-24

申请号：CN202111652087.7

申请日：2018-02-07

Applicant: 通用电气公司

Inventor： M.H.霍克迈尔 ,  Y.郑 ,  J.D.波拉克 ,  S.辛哈

IPC: B30B1/00 ,  B21D26/021

Abstract: 本申请涉及用于将压力施加到结构上的施加器系统。其中，一种用于将压力施加到复合结构(601)上的施加器组件(602)包括外部框架(614)、大致设置在外部框架(614)内的施加器壳(610)，以及大致设置在施加器壳(610)内的施加器(612)。施加器壳(610)包括第一膜(616)和设置在第一膜(616)内的第一堵塞材料(618)。施加器(612)包括第二膜(622)和设置在所述第二膜(622)内的第二堵塞材料(624)。

公开(公告)号：CN108394115B

公开(公告)日：2022-02-18

申请号：CN201810123000.9

申请日：2018-02-07

Applicant: 通用电气公司

Inventor： M.H.霍克迈尔 ,  Y.郑 ,  J.D.波拉克 ,  S.辛哈

IPC: B30B1/00 ,  B21D26/021

Abstract: 本申请涉及用于将压力施加到结构上的施加器系统。其中，一种用于将压力施加到复合结构(601)上的施加器组件(602)包括外部框架(614)、大致设置在外部框架(614)内的施加器壳(610)，以及大致设置在施加器壳(610)内的施加器(612)。施加器壳(610)包括第一膜(616)和设置在第一膜(616)内的第一堵塞材料(618)。施加器(612)包括第二膜(622)和设置在所述第二膜(622)内的第二堵塞材料(624)。

公开(公告)号：CN114290727A

公开(公告)日：2022-04-08

申请号：CN202111652087.7

申请日：2018-02-07

Applicant: 通用电气公司

Inventor： M.H.霍克迈尔 ,  Y.郑 ,  J.D.波拉克 ,  S.辛哈

IPC: B30B1/00 ,  B21D26/021

Abstract: 本申请涉及用于将压力施加到结构上的施加器系统。其中，一种用于将压力施加到复合结构(601)上的施加器组件(602)包括外部框架(614)、大致设置在外部框架(614)内的施加器壳(610)，以及大致设置在施加器壳(610)内的施加器(612)。施加器壳(610)包括第一膜(616)和设置在第一膜(616)内的第一堵塞材料(618)。施加器(612)包括第二膜(622)和设置在所述第二膜(622)内的第二堵塞材料(624)。

公开(公告)号：CN108394115A

公开(公告)日：2018-08-14

申请号：CN201810123000.9

申请日：2018-02-07

Applicant: 通用电气公司

Inventor： M.H.霍克迈尔 ,  Y.郑 ,  J.D.波拉克 ,  S.辛哈

IPC: B30B1/00 ,  B21D26/021

CPC classification number: B29C70/44 ,  B29C33/54 ,  B29C70/443 ,  B29C70/46 ,  B30B1/003 ,  B21D26/021

Abstract: 本申请涉及用于将压力施加到结构上的施加器系统。其中，一种用于将压力施加到复合结构(601)上的施加器组件(602)包括外部框架(614)、大致设置在外部框架(614)内的施加器壳(610)，以及大致设置在施加器壳(610)内的施加器(612)。施加器壳(610)包括第一膜(616)和设置在第一膜(616)内的第一堵塞材料(618)。施加器(612)包括第二膜(622)和设置在所述第二膜(622)内的第二堵塞材料(624)。