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公开(公告)号:CN101821008A
公开(公告)日:2010-09-01
申请号:CN200880112261.5
申请日:2008-06-19
Applicant: 通用电气公司
IPC: B01L3/00 , G01N33/543
CPC classification number: B01L3/5027 , B01L2200/025 , B01L2200/141 , B01L2200/143 , B01L2300/021 , B01L2300/0816 , B01L2300/0864 , B01L2300/168 , G01N21/03 , G01N2021/0325 , G01N2021/0346 , G01N2021/0382
Abstract: 一种制品包括用于检测器系统的基片组合件。基片组合件包括基片;固定到基片的样品接收结构;延伸通过基片的试验窗;和流体通道,所述流体通道由基片的表面限定,并且从样品接收结构延伸到试验窗。试验窗对具体波长的光例如紫外光透明。
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公开(公告)号:CN102334022A
公开(公告)日:2012-01-25
申请号:CN200980157721.0
申请日:2009-12-16
Applicant: 通用电气公司
IPC: G01N17/00 , C02F5/08 , C23F11/08 , G05B13/04 , G05B15/02 , G05B21/02 , G05B23/02 , G05D21/02 , G01N33/18
CPC classification number: G01N17/00 , C02F2103/023 , C02F2209/005 , C02F2209/06 , C02F2303/08 , G05D21/02
Abstract: 公开了一种用于监测和控制工业水系统中的局部腐蚀的控制系统,所述控制系统包括:测定定量局部腐蚀速率和至少一种可控水化学变量;确定所述定量局部腐蚀速率与所述至少一种可控水化学变量之间的数学相关性;建立所述可控水化学变量与至少一种化学处理剂进给之间的数学相关性;界定从所述局部腐蚀速率的当前值和未来值导出的指数,及从所述至少一种化学处理剂进给的当前值和未来值导出的指数;利用处理器以使所述局部腐蚀速率的指数及所述至少一种化学处理剂进给的指数最小化,并判定所述至少一种化学处理剂进给的当前值和未来值;和在所述水系统内仅执行所述至少一种化学处理剂进给的当前值。
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