改善了抗微裂纹性能的叠层制品及其制造方法

    公开(公告)号:CN1329131C

    公开(公告)日:2007-08-01

    申请号:CN00818965.X

    申请日:2000-11-15

    Abstract: 本发明涉及一种多层制品,其包含基材(10);其包含分子式为R2Si(OR’)2的二有机基二有机氧基硅烷的部分缩合物或分子式为RSi(OR’)3的有机基三有机氧基硅烷的部分缩合物或二者的部分缩合物的第一层(20),其中,R独立地选自有含有约1-3个碳原子的烷基、含有约6-13个碳原子的芳基、乙烯基、3,3,3-三氟丙基、γ-缩甘油氧丙基和γ-甲基丙烯酰氧基丙基,R’独立地选自含有约1-8个碳原子的烷基、含有约6-20个碳原子的芳基、和氢;和在第一层上沉积的第二层(30),所述第二层包含已经在等离子体中聚合并氧化的有机硅物质,所述第二层中含有硅、氧、碳和氢。

    改善了抗微裂纹性能的叠层制品及其制造方法

    公开(公告)号:CN1434750A

    公开(公告)日:2003-08-06

    申请号:CN00818965.X

    申请日:2000-11-15

    Abstract: 本发明涉及一种多层制品,其包含基材(10);其包含分子式为R2Si(OR’)2的二有机基二有机氧基硅烷的部分缩合物或分子式为RSi(OR’)3的有机基三有机氧基硅烷的部分缩合物或二者的部分缩合物的第一层(20),其中,R独立地选自有含有约1-3个碳原子的烷基、含有约6-13个碳原子的芳基、乙烯基、3,3,3-三氟丙基、γ-缩甘油氧丙基和γ-甲基丙烯酰基氧丙基,R’独立地选自含有约1-8个碳原子的烷基、含有约6-20个碳原子的芳基、和氢;和在第一层上沉积的第二层(30),所述第二层包含已经在等离子体中聚合并氧化的有机硅物质,所述第二层中含有硅、氧、碳和氢。

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