公开(公告)号：CN102557855A

公开(公告)日：2012-07-11

申请号：CN201010613288.1

申请日：2010-12-22

Applicant: 通用电气公司

Inventor： 古彦飞 ,  彭文庆 ,  王世忠 ,  林川 ,  劳伦斯·库尔 ,  吴召平 ,  傅琪佳 ,  邓志刚

IPC: C07C11/04 ,  C07C11/06 ,  C07C5/327 ,  C10G9/14 ,  C10G9/20 ,  C10G9/16 ,  C10G9/36 ,  B05D7/24 ,  B05D3/00

CPC classification number: C10B43/14 ,  C10G9/16 ,  C10G2300/1044 ,  C10G2300/1059 ,  C10G2300/807 ,  C10G2400/20

Abstract: 裂解反应装置接触烃的表面含氧化铈、氧化锌、氧化锡、氧化锆、勃姆石和氧化硅中至少一种和化学式为AaBbCcDdO3-δ的钙钛矿材料的烧结产物，其中0＜a＜1.2，0≤b≤1.2，0.9＜a+b≤1.2，0＜c＜1.2，0≤d≤1.2，0.9＜c+d≤1.2，-0.5＜δ＜0.5；A为钙(Ca)、锶(Sr)、钡(Ba)或其组合；B为锂(Li)、钠(Na)、钾(K)、铷(Rb)或其组合；C为铈(Ce)、锆(Zr)、锑(Sb)、镨(Pr)、钛(Ti)、铬(Cr)、锰(Mn)、铁(Fe)、钴(Co)、镍(Ni)、镓(Ga)、锡(Sn)、铽(Tb)或其组合；D为镧(La)、铈(Ce)、镨(Pr)、钕(Nd)、钷(Pm)、钐(Sm)、铕(Eu)、钆(Gd)、铽(Tb)、镝(Dy)、钬(Ho)、铒(Er)、铥(Tm)、镱(Yb)、镥(Lu)、钪(Sc)、钛(Ti)、钒(V)、铬(Cr)、锰(Mn)、铁(Fe)、钴(Co)、镍(Ni)、铜(Cu)、锌(Zn)、钇(Y)、锆(Zr)、铌(Nb)、钼(Mo)、锝(Tc)、钌(Ru)、铑(Rh)、钯(Pd)、银(Ag)、镉(Cd)、铪(Hf)、钽(Ta)、钨(W)、铼(Re)、锇(Os)、铱(Ir)、铂(Pt)、金(Au)、镓(Ga)、铟(In)、锡(Sn)、锑(Sb)或其组合。

公开(公告)号：CN105506713B

公开(公告)日：2018-05-08

申请号：CN201410499757.X

申请日：2014-09-25

Applicant: 通用电气公司

Inventor： 武颖娜 ,  徐惠宇 ,  劳伦斯·库尔 ,  布彭德拉·古普塔 ,  周宏 ,  萨玛尔·卡琳塔 ,  朱慧

IPC: C25D15/00 ,  C25D3/06

Abstract: 本发明公开了通过电镀形成铬基涂层的方法、所用电解液以及所形成的涂层。具体地涉及一种在构件上形成铬基涂层的方法，在该方法中，将所述构件及对电极浸入包括三价铬盐和纳米陶瓷微粒的电解液中，在所述构件和对电极上施加电流，并向所述构件上电镀一层包括铬和纳米陶瓷微粒的铬基涂层。本发明还涉及该方法中所用的电解液、以及用该方法获得的镀有涂层的构件。

公开(公告)号：CN102418110B

公开(公告)日：2015-06-10

申请号：CN201010299084.5

申请日：2010-09-26

Applicant: 通用电气公司

Inventor： 刘中仕 ,  周宏 ,  张俊刚 ,  管杰 ,  劳伦特·克里特格尼 ,  劳伦斯·库尔

IPC: C23G5/00

Abstract: 本发明涉及一种去除氧化物的方法，其包括：将所述氧化物与组合物反应生成结果产物，所述组合物包含碱金属的碳酸盐、氧化物、氢氧化物或者草酸盐，或者碱金属的碳酸盐、氧化物、氢氧化物或者草酸盐和氧化硼或硼酸的组合或反应产物；清除结果产物。另一方面，本发明涉及一种去除氧化物的方法，其包括：将所述氧化物与包含碱金属的碳酸盐、氧化物、氢氧化物或者草酸盐，或者碱金属的碳酸盐、氧化物、氢氧化物或者草酸盐和氧化硼或硼酸的组合或反应产物的组合物接触；加热所述氧化物和组合物以反应生成结果产物；清洗所述结果产物。

公开(公告)号：CN105506713A

公开(公告)日：2016-04-20

申请号：CN201410499757.X

申请日：2014-09-25

Applicant: 通用电气公司

Inventor： 武颖娜 ,  徐惠宇 ,  劳伦斯·库尔 ,  布彭德拉·古普塔 ,  周宏 ,  萨玛尔·卡琳塔 ,  朱慧

IPC: C25D15/00 ,  C25D3/06

Abstract: 本发明公开了通过电镀形成铬基涂层的方法、所用电解液以及所形成的涂层。具体地涉及一种在构件上形成铬基涂层的方法，在该方法中，将所述构件及对电极浸入包括三价铬盐和纳米陶瓷微粒的电解液中，在所述构件和对电极上施加电流，并向所述构件上电镀一层包括铬和纳米陶瓷微粒的铬基涂层。本发明还涉及该方法中所用的电解液、以及用该方法获得的镀有涂层的构件。

公开(公告)号：CN102557855B

公开(公告)日：2015-11-25

申请号：CN201010613288.1

申请日：2010-12-22

Applicant: 通用电气公司

Inventor： 古彦飞 ,  彭文庆 ,  王世忠 ,  林川 ,  劳伦斯·库尔 ,  吴召平 ,  傅琪佳 ,  邓志刚

IPC: C07C11/04 ,  C07C11/06 ,  C07C5/327 ,  C10G9/14 ,  C10G9/20 ,  C10G9/16 ,  C10G9/36 ,  B05D7/24 ,  B05D3/00

CPC classification number: C10B43/14 ,  C10G9/16 ,  C10G2300/1044 ,  C10G2300/1059 ,  C10G2300/807 ,  C10G2400/20

Abstract: 裂解反应装置接触烃的表面含氧化铈、氧化锌、氧化锡、氧化锆、勃姆石和氧化硅中至少一种和化学式为AaBbCcDdO3-δ的钙钛矿材料的烧结产物，其中0＜a＜1.2，0≤b≤1.2，0.9＜a+b≤1.2，0＜c＜1.2，0≤d≤1.2，0.9＜c+d≤1.2，-0.5＜δ＜0.5；A为钙(Ca)、锶(Sr)、钡(Ba)或其组合；B为锂(Li)、钠(Na)、钾(K)、铷(Rb)或其组合；C为铈(Ce)、锆(Zr)、锑(Sb)、镨(Pr)、钛(Ti)、铬(Cr)、锰(Mn)、铁(Fe)、钴(Co)、镍(Ni)、镓(Ga)、锡(Sn)、铽(Tb)或其组合；D为镧(La)、铈(Ce)、镨(Pr)、钕(Nd)、钷(Pm)、钐(Sm)、铕(Eu)、钆(Gd)、铽(Tb)、镝(Dy)、钬(Ho)、铒(Er)、铥(Tm)、镱(Yb)、镥(Lu)、钪(Sc)、钛(Ti)、钒(V)、铬(Cr)、锰(Mn)、铁(Fe)、钴(Co)、镍(Ni)、铜(Cu)、锌(Zn)、钇(Y)、锆(Zr)、铌(Nb)、钼(Mo)、锝(Tc)、钌(Ru)、铑(Rh)、钯(Pd)、银(Ag)、镉(Cd)、铪(Hf)、钽(Ta)、钨(W)、铼(Re)、锇(Os)、铱(Ir)、铂(Pt)、金(Au)、镓(Ga)、铟(In)、锡(Sn)、锑(Sb)或其组合。

公开(公告)号：CN102418110A

公开(公告)日：2012-04-18

申请号：CN201010299084.5

申请日：2010-09-26

Applicant: 通用电气公司

Inventor： 刘中仕 ,  周宏 ,  张俊刚 ,  管杰 ,  劳伦特·克里特格尼 ,  劳伦斯·库尔

IPC: C23G5/00

Abstract: 本发明涉及一种去除氧化物的方法，其包括：将所述氧化物与组合物反应生成结果产物，所述组合物包含碱金属的碳酸盐、氧化物、氢氧化物或者草酸盐，或者碱金属的碳酸盐、氧化物、氢氧化物或者草酸盐和氧化硼或硼酸的组合或反应产物；清除结果产物。另一方面，本发明涉及一种去除氧化物的方法，其包括：将所述氧化物与包含碱金属的碳酸盐、氧化物、氢氧化物或者草酸盐，或者碱金属的碳酸盐、氧化物、氢氧化物或者草酸盐和氧化硼或硼酸的组合或反应产物的组合物接触；加热所述氧化物和组合物以反应生成结果产物；清洗所述结果产物。