公开(公告)号：CN106794622B

公开(公告)日：2021-09-24

申请号：CN201580055666.X

申请日：2015-10-28

Applicant: 迪睿合株式会社

Inventor： 村本穰 ,  菊池正尚

IPC: B29C59/04 ,  B32B3/26

Abstract: 本发明提供一种填料填充膜、片状膜、层叠膜、贴合体和填料填充膜的制造方法。为了解决上述课题，根据本发明的观点，提供一种填料填充膜，其具有膜主体、在膜主体的表面形成的多个凹部和填充在各个凹部中的填料，凹部的开口面的直径至少大于可见光波长，凹部的排列图案具有沿着膜主体的长度方向的周期性，膜主体的一个端部中的填料的填充率与膜主体的其他部分中的填料的填充率之差小于0.5％。

公开(公告)号：CN114083860A

公开(公告)日：2022-02-25

申请号：CN202111052142.9

申请日：2015-10-28

Applicant: 迪睿合株式会社

Inventor： 村本穰 ,  菊池正尚

IPC: B32B27/36 ,  B32B3/08 ,  B32B3/30 ,  B32B7/12 ,  B32B27/06 ,  B29C59/04

Abstract: 本发明提供一种填料填充膜、片状膜、层叠膜、贴合体和填料填充膜的制造方法。为了解决上述课题，根据本发明的观点，提供一种填料填充膜，其具有膜主体、在膜主体的表面形成的多个凹部和填充在各个凹部中的填料，凹部的开口面的直径至少大于可见光波长，凹部的排列图案具有沿着膜主体的长度方向的周期性，膜主体的一个端部中的填料的填充率与膜主体的其他部分中的填料的填充率之差小于0.5％。

公开(公告)号：CN106794622A

公开(公告)日：2017-05-31

申请号：CN201580055666.X

申请日：2015-10-28

Applicant: 迪睿合株式会社

Inventor： 村本穰 ,  菊池正尚

IPC: B29C59/04 ,  B32B3/26

CPC classification number: B29D7/01 ,  B29C35/10 ,  B29C59/04 ,  B29C59/046 ,  B29C2035/0827 ,  B29C2059/023 ,  B29D11/00596 ,  B29D11/00788 ,  B29K2105/16 ,  B32B3/28 ,  G02B27/2292 ,  H01L23/49816

Abstract: 本发明提供一种填料填充膜、片状膜、层叠膜、贴合体和填料填充膜的制造方法。为了解决上述课题，根据本发明的观点，提供一种填料填充膜，其具有膜主体、在膜主体的表面形成的多个凹部和填充在各个凹部中的填料，凹部的开口面的直径至少大于可见光波长，凹部的排列图案具有沿着膜主体的长度方向的周期性，膜主体的一个端部中的填料的填充率与膜主体的其他部分中的填料的填充率之差小于0.5％。

公开(公告)号：CN109940865A

公开(公告)日：2019-06-28

申请号：CN201910280138.4

申请日：2015-10-28

Applicant: 迪睿合株式会社

Inventor： 村本穰 ,  菊池正尚

IPC: B29C59/02 ,  B29C59/04 ,  B29D7/01 ,  B29C35/10 ,  C08J7/00 ,  G02B1/11

Abstract: 提供一种转印物、层叠膜、片状转印物、其应用和使用其的设备。所述转印物具备基材、以及转印于所述基材的表面的多个微小固体物质，所述微小固体物质的排列图案具有沿着所述基材的长度方向的周期性，所述微小固体物质的缺损率相对于所述微小固体物质的总数小于1％。

公开(公告)号：CN107073806A

公开(公告)日：2017-08-18

申请号：CN201580055670.6

申请日：2015-10-28

Applicant: 迪睿合株式会社

Inventor： 村本穰 ,  菊池正尚

IPC: B29C59/02

Abstract: 提供一种凹部的缺损频率更少的压花膜。一种压花膜，其具备膜主体、以及在上述膜主体的表面形成的多个凹部，上述凹部的开口面的直径大于可见光波长，上述凹部的排列图案具有沿着所述膜主体的长度方向的周期性，上述膜主体的一个端部中的凹部的缺损率与上述膜主体的另一个端部中的凹部的缺损率之差为10ppm以下。

公开(公告)号：CN114103279A

公开(公告)日：2022-03-01

申请号：CN202111050795.3

申请日：2015-10-28

Applicant: 迪睿合株式会社

Inventor： 村本穰 ,  菊池正尚

IPC: B32B3/30 ,  B32B3/08 ,  B32B27/06 ,  B32B7/12 ,  B29C59/04 ,  B29L7/00

Abstract: 本发明提供一种填料填充膜、片状膜、层叠膜、贴合体和填料填充膜的制造方法。为了解决上述课题，根据本发明的观点，提供一种填料填充膜，其具有膜主体、在膜主体的表面形成的多个凹部和填充在各个凹部中的填料，凹部的开口面的直径至少大于可见光波长，凹部的排列图案具有沿着膜主体的长度方向的周期性，膜主体的一个端部中的填料的填充率与膜主体的其他部分中的填料的填充率之差小于0.5％。

公开(公告)号：CN110435125A

公开(公告)日：2019-11-12

申请号：CN201910739177.6

申请日：2015-10-28

Applicant: 迪睿合株式会社

Inventor： 村本穰 ,  菊池正尚

IPC: B29C59/04 ,  B05D1/28 ,  B05D1/40 ,  B29C35/08 ,  B29C35/10 ,  B29K105/16

Abstract: 提供一种转印物、层叠膜、片状转印物、其应用和使用其的设备。所述转印物具备基材、以及转印于所述基材的表面的多个微小固体物质，所述微小固体物质的排列图案具有沿着所述基材的长度方向的周期性，所述微小固体物质的缺损率相对于所述微小固体物质的总数小于1％。

公开(公告)号：CN111168984B

公开(公告)日：2023-01-17

申请号：CN202010025666.8

申请日：2015-10-28

Applicant: 迪睿合株式会社

Inventor： 村本穰 ,  菊池正尚

IPC: B29C59/04 ,  B32B3/26

Abstract: 本发明提供一种填料填充膜、片状膜、层叠膜、贴合体和填料填充膜的制造方法。为了解决上述课题，根据本发明的观点，提供一种填料填充膜，其具有膜主体、在膜主体的表面形成的多个凹部和填充在各个凹部中的填料，凹部的开口面的直径至少大于可见光波长，凹部的排列图案具有沿着膜主体的长度方向的周期性，膜主体的一个端部中的填料的填充率与膜主体的其他部分中的填料的填充率之差小于0.5％。

公开(公告)号：CN110435125B

公开(公告)日：2022-02-08

申请号：CN201910739177.6

申请日：2015-10-28

Applicant: 迪睿合株式会社

Inventor： 村本穰 ,  菊池正尚

IPC: B29C59/04 ,  B05D1/28 ,  B05D1/40 ,  B29C35/08 ,  B29C35/10 ,  B29K105/16

Abstract: 提供一种转印物、层叠膜、片状转印物、其应用和使用其的设备。所述转印物具备基材、以及转印于所述基材的表面的多个微小固体物质，所述微小固体物质的排列图案具有沿着所述基材的长度方向的周期性，所述微小固体物质的缺损率相对于所述微小固体物质的总数小于1％。

公开(公告)号：CN109940865B

公开(公告)日：2021-09-28

申请号：CN201910280138.4

申请日：2015-10-28

Applicant: 迪睿合株式会社

Inventor： 村本穰 ,  菊池正尚

IPC: B29C59/02 ,  B29C59/04 ,  B29D7/01 ,  B29C35/10 ,  C08J7/00 ,  G02B1/11

Abstract: 提供一种转印物、层叠膜、片状转印物、其应用和使用其的设备。所述转印物具备基材、以及转印于所述基材的表面的多个微小固体物质，所述微小固体物质的排列图案具有沿着所述基材的长度方向的周期性，所述微小固体物质的缺损率相对于所述微小固体物质的总数小于1％。