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公开(公告)号:CN105177527A
公开(公告)日:2015-12-23
申请号:CN201510103249.X
申请日:2015-03-10
申请人: 超科技公司
发明人: A·W·泽弗洛普洛
CPC分类号: H01L21/02274 , C23C16/401 , C23C16/405 , C23C16/45536 , C23C16/507 , H01L21/02164 , H01L21/02175 , H01L21/0228
摘要: 本发明公开了一种采用臭氧等离子体的氧自由基增强原子层沉积。具体地,公开了一种在位于反应室内部的衬底表面上进行氧自由基增强的原子层沉积过程的方法。该方法包括形成臭氧等离子体以产生氧自由基O*。该方法还包括按顺序供给该氧自由基和前体气体进入反应室的内部以在衬底表面上形成氧化物膜。还公开了一种用于进行氧自由基增强的原子层沉积过程的系统。
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