公开(公告)号：CN102396084A

公开(公告)日：2012-03-28

申请号：CN201080016809.3

申请日：2010-03-22

Applicant: 诺基亚公司

Inventor： S·M·哈克 ,  R·莱赫蒂涅米 ,  A·凯尔凯宁 ,  L·莱希纳 ,  P·哈科宁

IPC: H01L51/00 ,  H01L21/02 ,  B82B3/00

CPC classification number: H01B1/04 ,  H01L29/1606 ,  Y10S977/855 ,  Y10S977/856 ,  Y10S977/857 ,  Y10S977/858 ,  Y10S977/859

Abstract: 一种方法和装置，所述方法包括：在石墨烯层中形成凹部，其中，所述凹部在所述石墨烯层的第一部分与所述石墨烯层的第二部分之间创建了边界；在所述凹部内沉积电绝缘材料；以及在所述绝缘材料上沉积电传导材料。