公开(公告)号：CN1219754A

公开(公告)日：1999-06-16

申请号：CN98122695.7

申请日：1998-11-25

Applicant: 西门子公司 ,  株式会社东芝

Inventor： 稗田克彦 ,  托马斯·法西 ,  安德里斯·格拉思曼

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/00

CPC classification number: G03F7/162 ,  G03F1/50

Abstract: 在由石英构成的圆形衬底的一侧表面的整个面上,形成由铬构成的遮光膜。旋转衬底,在遮光膜的上面涂敷抗蚀剂。由于衬底是圆形,因此抗蚀剂通过离心力在遮光膜的整个表面均匀扩散。因而,抗蚀剂在遍布遮光膜的几乎整个表面上具有几乎均匀的膜厚。把该抗蚀剂进行图形化形成抗蚀剂图形,通过以该抗蚀剂图形作为掩模腐蚀遮光膜,能够形成尺寸精度良好的图形。

公开(公告)号：CN1144264C

公开(公告)日：2004-03-31

申请号：CN98122695.7

申请日：1998-11-25

Applicant: 西门子公司 ,  株式会社东芝

Inventor： 稗田克彦 ,  托马斯·法西 ,  安德里斯·格拉思曼

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/00

CPC classification number: G03F7/162 ,  G03F1/50

Abstract: 在由石英构成的圆形衬底的一侧表面的整个面上，形成由铬构成的遮光膜。旋转衬底，在遮光膜的上面涂敷抗蚀剂。由于衬底是圆形，因此抗蚀剂通过离心力在遮光膜的整个表面均匀扩散。因而，抗蚀剂在遍布遮光膜的几乎整个表面上具有几乎均匀的膜厚。把该抗蚀剂进行图形化形成抗蚀剂图形，通过以该抗蚀剂图形作为掩模腐蚀遮光膜，能够形成尺寸精度良好的图形。