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公开(公告)号:CN104414640A
公开(公告)日:2015-03-18
申请号:CN201410446674.4
申请日:2014-09-03
Applicant: 西门子公司
CPC classification number: A61B5/0555 , A61G13/08 , A61B5/055 , A61B6/035 , A61B6/04
Abstract: 本发明涉及一种定位设备,该定位设备设计用于将病人辅助地支承和/或定位在病人支承设备上,该定位设备具有用于支撑病人的支撑单元和固定单元,该固定单元设计用于将定位设备固定在病人支承设备上,其中,支撑单元具有至少两个支撑区域,其中,第一支撑区域的位置相对至少一个第二支撑区域的位置可调节。
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公开(公告)号:CN102778661B
公开(公告)日:2016-01-13
申请号:CN201210137788.1
申请日:2012-05-07
Applicant: 西门子公司
Inventor: D.德里梅尔
IPC: A61B5/055 , G01R33/341
CPC classification number: G01R33/34007 , A61B5/055 , G01R33/34084
Abstract: 本发明涉及一种用于磁共振成像系统(101)的局部线圈(106),该局部线圈(106)具有上部(2)和下部(3),其中,所述上部(2)能相对所述下部(3)翻转。
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公开(公告)号:CN105044636A
公开(公告)日:2015-11-11
申请号:CN201510173911.9
申请日:2015-04-13
Applicant: 西门子公司
IPC: G01R33/3875 , A61B5/055
Abstract: 本发明涉及用于补偿磁场的不均匀性的方法、系统和磁共振设备,具体为用于借助磁共振设备的匀场线圈补偿由磁共振设备产生的磁场的不均匀性的方法、系统和磁共振设备。在此执行以下步骤:将匀场线圈布置到检查对象上。自动确定匀场线圈的位置和方向。确定磁场的不均匀性。借助匀场线圈根据匀场线圈的位置和方向补偿所述不均匀性。此外本发明涉及一种用于磁共振设备的系统,其中所述系统包括局部线圈、匀场线圈和装置。所述装置构造为,被固定地安装到磁共振设备上。所述系统构造为,用于改变在局部线圈和/或匀场线圈一方与装置另一方之间的位置和方向关系。
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公开(公告)号:CN102778661A
公开(公告)日:2012-11-14
申请号:CN201210137788.1
申请日:2012-05-07
Applicant: 西门子公司
Inventor: D.德里梅尔
IPC: G01R33/341
CPC classification number: G01R33/34007 , A61B5/055 , G01R33/34084
Abstract: 本发明涉及一种用于磁共振成像系统(101)的局部线圈(106),该局部线圈(106)具有上部(2)和下部(3),其中,所述上部(2)能相对所述下部(3)翻转。
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公开(公告)号:CN205749860U
公开(公告)日:2016-11-30
申请号:CN201620051287.5
申请日:2016-01-19
Applicant: 西门子公司
IPC: G01R33/341 , A61B5/055
CPC classification number: G01R33/34084 , A61B5/0555 , G01R33/34046
Abstract: 本实用新型涉及一种具有多个线圈元件(E1,E2)和用于容纳患者的颈部/头部区域的容纳空间(R)的MR线圈(1),该MR线圈具有带有至少一个第一线圈元件(E1)的线圈下部部分(2)和布置在该线圈下部部分(2)上的、带有至少一个第二线圈元件(E2)的线圈上部部分(3),其中,所述至少一个第一线圈元件(E1)和所述至少一个第二线圈元件(E2)可以彼此分离地连接。在MR系统的患者卧榻上连接有这种MR线圈(1)。MR系统具有至少一个这种MR线圈(1)。本实用新型尤其可以应用于MR断层成像。
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公开(公告)号:CN205649499U
公开(公告)日:2016-10-19
申请号:CN201521066302.5
申请日:2015-12-18
Applicant: 西门子公司
Inventor: D.德里梅尔
IPC: A61B5/055 , G01R33/341
CPC classification number: G01R33/34084 , A61B5/0042 , A61B5/0555 , G01R33/34007
Abstract: 本实用新型涉及一种用于成像的磁共振仪系统(101)的头部线圈(106),其特征在于,所述头部线圈(106)具有头部线圈上部件(O)和头部线圈下部件(2、1),其中,所述头部线圈下部件(2、1)具有静止的壳体件(1)和相对静止的壳体件(1)运动的壳体件(2),这些壳体件(1、2)借助至少一个间隔滑动支承件(3)相对彼此运动(BEW)。
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公开(公告)号:CN205120947U
公开(公告)日:2016-03-30
申请号:CN201520538756.1
申请日:2015-07-23
Applicant: 西门子公司
Inventor: D.德里梅尔
IPC: G01R33/34
CPC classification number: G01R33/34007 , G01R33/34084
Abstract: 本实用新型涉及一种用于成像MRT系统(101)的头部线圈(106),该头部线圈(106)具有头部线圈上部分(1)和头部线圈下部分(2),其中头部线圈下部分(2)具有下部分基部(4)和可运动的下部分(5),该下部分基部(4)和可运动的下部分(5)通过机构(3)相互可运动(BEW)以用于倾斜角调节。
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