曝光装置和用于制造曝光装置的方法

    公开(公告)号:CN1684837A

    公开(公告)日:2005-10-19

    申请号:CN200380100103.5

    申请日:2003-10-10

    CPC classification number: G06K15/1261 B41J2/45 G06K15/1209

    Abstract: 本发明在于提供一种在其中存储有被适当确定的电流值,用于向发光设备供电的曝光装置,和用于制造这种曝光装置的方法。根据本发明的制造方法包括步骤:向发光设备提供参考电流,并测量来自光调制设备的多个像素中各像素的光量;确定从多个像素测得的光量中的最小值是否处在预定范围内;以及当光量的最小值处在预定范围之外时,确定所要提供给发光设备的电流值,以使光量的最小值落在预定范围内。

    曝光装置和用于制造曝光装置的方法

    公开(公告)号:CN1684836A

    公开(公告)日:2005-10-19

    申请号:CN200380100089.9

    申请日:2003-10-10

    CPC classification number: G06K15/1261 B41J2/45 G06K15/1209

    Abstract: 本发明的目的在于,提供能够采用从包含有相邻发光部件光线的复合光中检测对应于一个特定发光部件的光量的方法,确定各个发光部件校正值的曝光装置,而且还提供用于制造这种曝光装置的方法。根据本发明的制造方法包括步骤:同时点亮多个发光部件,通过使用线状光接收设备进行测量来检测在所有多个发光部件上的输出光量分布,通过使用输出光量分布检测与每个发光部件相对应的峰位置,基于峰位置检测每个发光部件的光量,和基于每个发光部件的光量,确定用于校正发光部件光量不均匀性的校正值。

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