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公开(公告)号:CN112713185B
公开(公告)日:2022-07-22
申请号:CN202011521501.6
申请日:2020-12-21
Applicant: 西安电子科技大学
IPC: H01L29/423 , H01L29/40 , H01L29/772
Abstract: 本发明涉及一种具有支撑结构的T型栅及其制备方法和半导体功率器件,该具有支撑结构的T型栅,生长在具有钝化层的半导体基片上,包括栅帽、栅脚和若干栅支柱,其中,栅帽位于半导体基片的上方;栅脚的一端与栅帽的底面中部连接,另一端穿过钝化层生长在半导体基片上;若干栅支柱沿栅宽方向间隔设置在栅帽底部的两侧,且栅支柱的底部与钝化层连接。本发明的具有支撑结构的T型栅,在栅帽两侧沿栅宽方向相间隔设置有栅支柱,在提高栅脚的高度的同时不增加钝化层厚度,不影响寄生电容,提高了器件在高频下的性能。
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公开(公告)号:CN112713185A
公开(公告)日:2021-04-27
申请号:CN202011521501.6
申请日:2020-12-21
Applicant: 西安电子科技大学
IPC: H01L29/423 , H01L29/40 , H01L29/772
Abstract: 本发明涉及一种具有支撑结构的T型栅及其制备方法和半导体功率器件,该具有支撑结构的T型栅,生长在具有钝化层的半导体基片上,包括栅帽、栅脚和若干栅支柱,其中,栅帽位于半导体基片的上方;栅脚的一端与栅帽的底面中部连接,另一端穿过钝化层生长在半导体基片上;若干栅支柱沿栅宽方向间隔设置在栅帽底部的两侧,且栅支柱的底部与钝化层连接。本发明的具有支撑结构的T型栅,在栅帽两侧沿栅宽方向相间隔设置有栅支柱,在提高栅脚的高度的同时不增加钝化层厚度,不影响寄生电容,提高了器件在高频下的性能。
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