一种含缓释稳定剂的Si基粘结层喷涂粉末及其制备方法

    公开(公告)号:CN116463577A

    公开(公告)日:2023-07-21

    申请号:CN202310481309.6

    申请日:2023-04-28

    Abstract: 本发明公开了一种含缓释稳定剂的Si基粘结层喷涂粉末及其制备方法,属于粉末加工技术领域。含缓释稳定剂的Si基粘结层喷涂粉末结构上为等轴形状的致密结构,等轴形状的长宽比为1~2,致密度>95%,含缓释稳定剂的Si基粘结层喷涂粉末粒径为5~135μm。粉末制备方法包括以下步骤:步骤一、将Si粉和缓释稳定剂粉混合均匀;步骤二、对混合均匀的粉料进行超声熔化处理;步骤三、对步骤二的熔化的粉体采用熔融雾化法制备得到粉末;筛分整形,得到含缓释稳定剂的Si基粘结层喷涂粉末。本发明制备的含缓释稳定剂的Si基粘结层喷涂粉末具有缓释稳定剂分散均匀、粒径一致的优点。

    一种内含缓释稳定剂的Si基涂层的料浆烧结制备方法

    公开(公告)号:CN116444295A

    公开(公告)日:2023-07-18

    申请号:CN202310481303.9

    申请日:2023-04-28

    Abstract: 本发明公开了一种内含缓释稳定剂的Si基涂层的料浆烧结制备方法,属于涂层技术领域。具体按照以下步骤进行:步骤一、将Si粉和缓释稳定剂混合均匀后在溶剂中超声搅拌均匀,得到浆料;步骤二、将浆料均匀涂覆在SiC基陶瓷基复合材料基体表面;步骤三、烘干SiC基陶瓷基复合材料基体表面的料浆;步骤四、将烘干过后的SiC基陶瓷基复合材料基体表面的料浆在惰性气氛下烧结,得到内含缓释稳定剂的Si基涂层。本发明中的缓释稳定剂能够有效地减少TGO的生长以及TGO相变带来的应力,延长涂层寿命,使得内含缓释稳定剂的Si基涂层与SiC基陶瓷基复合材料基体结合更加良好。

    一种网状分布缓释稳定剂的Si基粘结层及其制备方法

    公开(公告)号:CN116496109B

    公开(公告)日:2024-04-02

    申请号:CN202310481306.2

    申请日:2023-04-28

    Abstract: 本发明公开了一种网状分布缓释稳定剂的Si基粘结层及其制备方法,属于涂层技术领域。为解决传统环境障涂层Si粘结层与面层间的热生成氧化物对涂层的破坏作用,在原有基础上,在Si基层内部掺入了能够呈现片层串珠状分布的缓释稳定剂颗粒,该缓释稳定剂颗粒近球形,呈串珠状分布在涂层内部,使用等离子喷涂或火焰喷涂等热喷涂方式制备,经过低压环境下的真空或者惰性气氛热处理,使喷涂态涂层中A2O3缓释稳定剂膜将团聚转变为不连续分布的A2O3缓释稳定剂颗粒。该涂层中的缓释稳定剂可以有效减少TGO对涂层的破坏作用,延长涂层的服役寿命。

    一种内含缓释稳定剂的Si基涂层的料浆烧结制备方法

    公开(公告)号:CN116444295B

    公开(公告)日:2024-02-02

    申请号:CN202310481303.9

    申请日:2023-04-28

    Abstract: 本发明公开了一种内含缓释稳定剂的Si基涂层的料浆烧结制备方法,属于涂层技术领域。具体按照以下步骤进行:步骤一、将Si粉和缓释稳定剂混合均匀后在溶剂中超声搅拌均匀,得到浆料;步骤二、将浆料均匀涂覆在SiC基陶瓷基复合材料基体表面;步骤三、烘干SiC基陶瓷基复合材料基体表面的料浆;步骤四、将烘干过后的SiC基陶瓷基复合材料基体表面的料浆在惰性气氛下烧结,得到内含缓释稳定剂的Si基涂层。本发明中的缓释稳定剂能够有效地减少TGO的生长以及TGO相变带来的应力,延长涂层寿命,使得内含缓释稳定剂的Si基涂层与SiC基陶瓷基复合材料基体结合更加良好。

    一种内含空间离散分布缓释稳定剂的Si基涂层及其制备方法

    公开(公告)号:CN116479363A

    公开(公告)日:2023-07-25

    申请号:CN202310481308.1

    申请日:2023-04-28

    Abstract: 本发明公开了一种内含空间离散分布缓释稳定剂的Si基涂层及其制备方法,属于涂层制备技术领域。该涂层由SiO2颗粒、稳定剂颗粒以及Si基层组成,纳米级或微米级的SiO2颗粒呈珠串状分布在涂层内部。相邻SiO2颗粒珠串之间的位置为Si基层。在Si基层中弥散分布着颗粒尺寸为0.05~1.5μm的稳定剂颗粒。该涂层使用等离子喷涂或者火焰喷涂等热喷涂方式制备,喷涂后需要进行热处理,Si基相变得致密,使SiO2膜团聚球化,使得本来沿着SiO2片层扩散的氧或者水蒸汽的通道消失,提升粘结层的阻水蒸气和氧气的能力。该复相粘结层可以较好地减缓传统纯Si相粘结层上的热生成氧化物的生长速率和相变带来的应力,能有效延长环境障涂层的服役寿命。

    一种内含离散分布缓释稳定剂的Si基环境障粘结层

    公开(公告)号:CN116479364A

    公开(公告)日:2023-07-25

    申请号:CN202310481310.9

    申请日:2023-04-28

    Abstract: 本发明公开了一种内含离散分布缓释稳定剂的Si基环境障粘结层,属于涂层技术领域。包括以下步骤:步骤一、对陶瓷基复合材料工件表面清理;步骤二、对陶瓷基复合材料工件进行预热处理;步骤三、将Si粉和缓释稳定剂混合均匀;对混合均匀的粉料进行超声熔化处理;对熔化的粉体采用熔融雾化法并筛分整形制备得到喷涂粉末;步骤四、将喷涂粉末加入料仓采用真空等离子喷涂在预热处理过后的陶瓷基复合材料工件表面,在Ar和He气体环境下进行喷涂,得到内含离散分布缓释稳定剂的Si基环境障粘结层。本发明通过在粘结层内部引入离散分布的缓释稳定剂来降低TGO的生长速率和抑制其在220℃时的相变,减慢面层的剥落,延长环境障涂层的服役寿命。

    一种含有片层状缓释稳定剂的Si基粘结层及其制备方法

    公开(公告)号:CN116535244A

    公开(公告)日:2023-08-04

    申请号:CN202310481319.X

    申请日:2023-04-28

    Abstract: 本发明公开了一种含有片层状缓释稳定剂的Si基粘结层及其制备方法,属于涂层技术领域。含有片层状缓释稳定剂的Si基粘结层,由若干层单独的Si片层和含有缓释稳定剂片层的Si片层交替组成,单独的Si片层由若干个Si片层单元组成,Si片层单元致密度>95%,含有片层状缓释稳定剂的Si基粘结层的致密度>95%。本发明缓释稳定剂片层与Si片层单元交叠嵌合在一起,且不与Si片层单元发生化学反应,在粘结层中掺杂片层缓释稳定剂,缓释稳定剂一方面消耗了生成的SiO2,另一方面具有良好的阻氧能力,能够减少因为SiO2的产生带来的生长应力,并减少TGO的相变应力。

    一种网状分布缓释稳定剂的Si基粘结层及其制备方法

    公开(公告)号:CN116496109A

    公开(公告)日:2023-07-28

    申请号:CN202310481306.2

    申请日:2023-04-28

    Abstract: 本发明公开了一种网状分布缓释稳定剂的Si基粘结层及其制备方法,属于涂层技术领域。为解决传统环境障涂层Si粘结层与面层间的热生成氧化物对涂层的破坏作用,在原有基础上,在Si基层内部掺入了能够呈现片层串珠状分布的缓释稳定剂颗粒,该缓释稳定剂颗粒近球形,呈串珠状分布在涂层内部,使用等离子喷涂或火焰喷涂等热喷涂方式制备,经过低压环境下的真空或者惰性气氛热处理,使喷涂态涂层中A2O3缓释稳定剂膜将团聚转变为不连续分布的A2O3缓释稳定剂颗粒。该涂层中的缓释稳定剂可以有效减少TGO对涂层的破坏作用,延长涂层的服役寿命。

    一种抗氧化、长寿命环境障涂层粘接层及其制备方法

    公开(公告)号:CN117886632A

    公开(公告)日:2024-04-16

    申请号:CN202311808676.9

    申请日:2023-12-26

    Abstract: 本发明公开了一种抗氧化、长寿命环境障涂层粘接层及其制备方法,属于涂层技术领域。该环境障粘接层为双相结构,分为初始态和热处理态,在传统的Si基相中,加入与SiC热膨胀系数相近的HfO2,HfO2离散分布在连续致密的Si基相中,能够与Si的氧化产物反应,形成具有优良抗水氧腐蚀和高韧性的HfSiO4颗粒,同时进行涂层热处理,在涂层表面形成一层SiO2薄膜,降低HfO2中的氧空位浓度和扩散系数,HfSiO4颗粒弥散分布SiO2薄膜内部,容纳相变应力、阻止裂纹扩展,进一步提升了其服役寿命,实现了新型粘接层的抗氧化和长寿命服役。

    一种低热导率高反射率五元共掺杂陶瓷激光防护涂层及其制备方法

    公开(公告)号:CN118996313A

    公开(公告)日:2024-11-22

    申请号:CN202411086773.6

    申请日:2024-08-08

    Abstract: 本发明公开了一种低热导率高反射率五元共掺杂陶瓷激光防护涂层及其制备方法,属于高能激光防护技术领域。该防护涂层包括层叠设置的粘结层和反射隔热层,粘结层设置在基材表面,反射隔热层设置在粘结层表面;其中,粘结层由Ni‑Al自粘结粉末、Ni‑Mo‑Al、NiCrAlY、CoCrAlY和NiCoCrAlY中的一种喷涂形成;反射隔热层为五元共掺杂ZrO2的陶瓷涂层,陶瓷涂层中,基元为ZrO2,掺杂组元为:Y2O3、Gd2O3、Yb2O3、TiO2和Ta2O5,掺杂后的材料在25℃~1600℃时为单一立方相结构。通过对ZrO2进行多元氧化物掺杂,该涂层在室温下能保持立方相的同时具有更低的热导率和更高的反射率,能解决激光防护领域出现的金属材料氧化反射率降低、烧蚀材料存在质量损失以及隔热材料隔热能力不足的问题,延长服役寿命。

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