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公开(公告)号:CN108389753A
公开(公告)日:2018-08-10
申请号:CN201810123192.3
申请日:2018-02-07
Applicant: 西安交通大学
IPC: H01H33/664
Abstract: 本发明提供的一种新型杯状真空灭弧室触头,包括导电杆、横磁触头杯和触头片,其中,横磁触头杯设置有两个,且两个横磁触头杯的杯口镜像对称放置;导电杆焊接在横磁触头杯的底端,触头片设置在横磁触头杯的杯口处;本发明中的新型真空灭弧室触头控弧能力更强,在不减弱径向磁场的同时减弱了切向磁场,即弧柱所受切向力不减小的情况下,减小了径向力的大小,更有效的改善了弧柱的喷溅情况。
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公开(公告)号:CN108389753B
公开(公告)日:2020-03-31
申请号:CN201810123192.3
申请日:2018-02-07
Applicant: 西安交通大学
IPC: H01H33/664
Abstract: 本发明提供的一种新型杯状真空灭弧室触头,包括导电杆、横磁触头杯和触头片,其中,横磁触头杯设置有两个,且两个横磁触头杯的杯口镜像对称放置;导电杆焊接在横磁触头杯的底端,触头片设置在横磁触头杯的杯口处;本发明中的新型真空灭弧室触头控弧能力更强,在不减弱径向磁场的同时减弱了切向磁场,即弧柱所受切向力不减小的情况下,减小了径向力的大小,更有效的改善了弧柱的喷溅情况。
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