公开(公告)号：CN118222992A

公开(公告)日：2024-06-21

申请号：CN202410340298.4

申请日：2024-03-25

申请人： 西北有色金属研究院

发明人： 孙朔 ,  王晖 ,  冯铮 ,  张新 ,  薛建嵘 ,  李延超 ,  张文

IPC分类号： C23C14/35 ,  C23C14/18

摘要： 本发明公开了一种异质结构纳米晶钽钨合金薄膜及其制备方法，该方法选用电子束真空熔炼制备的钽钨合金作为靶材，使用直流磁控溅射方法在衬底上制备由接近衬底的小晶粒尺寸柱状晶结构和接近表面的大晶粒尺寸柱状晶结构组成的异质结构纳米晶钽钨合金薄膜。本发明采用直流磁控溅射方法，选用钽钨合金作为靶材，通过调控直流磁控溅射参数包括溅射功率、溅射时间和衬底温度以调节薄膜结构，获得小晶粒尺寸和大晶粒尺寸柱状晶结构混合的双峰异质结构纳米晶钽钨合金薄膜，提高了钽钨合金薄膜的硬度，该钽钨合金薄膜适用于炮管涂层、刀具涂层等领域。

公开(公告)号：CN117512532A

公开(公告)日：2024-02-06

申请号：CN202311451048.X

申请日：2023-11-03

申请人： 西北有色金属研究院

发明人： 孙朔 ,  张文 ,  王晖 ,  冯铮 ,  黄丽

IPC分类号： C23C14/34 ,  C23C14/06 ,  C23C14/35

摘要： 本发明公开了一种高硬度难熔高熵合金氮化膜及其制备方法，该方法选难熔高熵合金TiZrNbMo靶材，采用磁控溅射方法在衬底上制备难熔高熵合金氮化膜。本发明选用近等原子比且具有BCC结构的难熔高熵合金TiZrNbMo靶材，采用磁控溅射方法，通过调节反应气体与工作气体的流量比例，有效控制氮化膜中氮元素含量，通过调节气体流量和溅射过程中工作气压，有效控制等离子体密度，进而对溅射沉积速率进行有效调控，实现了对难熔高熵合金氮化膜的形貌结构和组织性能的优化；该难熔高熵合金氮化膜中各元素分布均匀，表面平整致密均匀，且呈现柱状晶结构，其硬度高达18GPa～24.2GPa，相较于难熔高熵合金得到了明显的提升。

公开(公告)号：CN118360558A

公开(公告)日：2024-07-19

申请号：CN202410340299.9

申请日：2024-03-25

申请人： 西北有色金属研究院

发明人： 孙朔 ,  王晖 ,  冯铮 ,  张新 ,  薛建嵘 ,  李延超 ,  张文

IPC分类号： C22F1/18 ,  C22C28/00 ,  C22C1/02

摘要： 本发明公开了一种调控钽钨合金组织均匀性和晶粒尺寸的方法，该方法包括：一、采用电子束真空熔炼法制备钽钨合金铸锭；二、将钽钨合金铸锭进行锻造开坯和退火得到钽钨合金锻坯；三、将钽钨合金锻坯进行两步多道次轧制和退火得到钽钨合金板材；四、对钽钨合金板材进行退火处理，得到具有不同晶粒尺寸且组织均匀的钽钨合金。本发明依次采用锻造开坯和两步多道次轧制对钽钨合金铸锭进行塑性变形加工，通过控制轧制参数并结合退火，降低了钽钨合金产生的加工内应力，细化了钽钨合金晶粒，提高了晶粒组织均匀性，实现了对高钨含量钽钨合金均匀性和晶粒尺寸的调控，获得了组织均匀、晶粒细小的钽钨合金，改善了钽钨合金的力学性能。