锑化铝材料的制备方法
    1.
    发明授权

    公开(公告)号:CN105696081B

    公开(公告)日:2018-03-30

    申请号:CN201610168862.4

    申请日:2016-03-23

    Abstract: 本发明公开了一种锑化铝材料的制备方法,用于解决现有制备的锑化铝材料电阻率低的技术问题。技术方案是以高纯铝与高纯锑为原材料,采用化学腐蚀方法除去铝表面氧化层,然后将按一定摩耳比配置的原材料放置于氮化硼坩埚中,再将氮化硼坩埚放置于石英坩埚中,抽真空,封接,采用在合料炉中使用温度振荡的方法进行合成,最后采用布里奇曼法在晶体生长炉中进行生长。由于氮化硼化学稳定性高,与铝反应速率极慢,且与AlSb同属III‑V族化合物,氮元素与硼元素在AlSb晶体中没有活性施主与受主能级,无恶化电阻率的杂质,锑化铝材料电阻率由背景技术的105Ω·cm提高到109Ω·cm,空穴的霍尔迁移率达到382cm2V‑1S‑1。

    一种压气机前置组合式机匣设计方法

    公开(公告)号:CN113007138A

    公开(公告)日:2021-06-22

    申请号:CN202110269334.9

    申请日:2021-03-12

    Abstract: 本发明公开了一种轴流压气机前置组合式机匣设计方法,该方法组合了轴向缝式机匣处理与自循环机匣处理结构,将轴向缝机匣处理采取前置叠合的形式置于压气机转子叶顶,自循环机匣处理横跨于轴向缝机匣处理上方,形成了一种前置组合式机匣处理结构。前置组合式机匣处理结构可以弥补单一结构机匣处理的不足,在极大提升压气机失速裕度的同时显著的降低了机匣处理带来的效率损失。

    碲镓银单晶体的制备方法

    公开(公告)号:CN105586640B

    公开(公告)日:2018-08-17

    申请号:CN201610137496.6

    申请日:2016-03-11

    Abstract: 本发明公开了一种碲镓银单晶体的制备方法,用于解决现有碲镓银晶体的方法实用性差的技术问题。技术方案是首先将高纯原料碲镓银加热到银的熔点,使碲镓银三种原料充分熔化反应,转动炉体使反应充分进行,之后以一定的速率降温到凝固点,断开炉体开关,以炉冷速率降温到室温。然后将合成的多晶料放入布里奇曼法生长炉中,以一定的加热,并过热保温一段时间后,在温场为10‑15℃/cm,结晶温度为712℃处开始生长,生长完成后在670‑680℃停留一段时间,进行原位退火,之后以5℃/h的冷却速率降到室温。由于采用加热到银的熔点温度来实现多晶料的合成,生长单晶时采用10‑15℃/cm的温场,成分过冷促进了碲镓银单晶的生长。

    碲镓银单晶体的制备方法

    公开(公告)号:CN105586640A

    公开(公告)日:2016-05-18

    申请号:CN201610137496.6

    申请日:2016-03-11

    CPC classification number: C30B29/46 C30B11/00 C30B28/04

    Abstract: 本发明公开了一种碲镓银单晶体的制备方法,用于解决现有碲镓银晶体的方法实用性差的技术问题。技术方案是首先将高纯原料碲镓银加热到银的熔点,使碲镓银三种原料充分熔化反应,转动炉体使反应充分进行,之后以一定的速率降温到凝固点,断开炉体开关,以炉冷速率降温到室温。然后将合成的多晶料放入布里奇曼法生长炉中,以一定的加热,并过热保温一段时间后,在温场为10-15℃/cm,结晶温度为712℃处开始生长,生长完成后在670-680℃停留一段时间,进行原位退火,之后以5℃/h的冷却速率降到室温。由于采用加热到银的熔点温度来实现多晶料的合成,生长单晶时采用10-15℃/cm的温场,成分过冷促进了碲镓银单晶的生长。

    一种压气机可调控耦合式机匣处理扩稳方法

    公开(公告)号:CN113007139A

    公开(公告)日:2021-06-22

    申请号:CN202110269356.5

    申请日:2021-03-12

    Abstract: 本发明公开了一种压气机可调控耦合式机匣处理扩稳方法,该方法耦合了轴向缝式机匣处理与叶顶喷气式机匣处理结构,将轴向缝机匣处理置于压气机转子叶顶,于缝式机匣处理顶部加装一背腔体结构,然后与置于压气机叶顶前缘的喷气装置连通,在连通桥路上设置工业截止阀,由此形成了一种压气机可调控耦合式机匣处理结构。通过合理调控阀门的开闭,可以保证获得最大综合失速裕度的同时,极大地降低压气机的峰值效率损失。此外,通过对阀门及桥路宽度的调控,可以开发适用于不同压气机类型的变工况可调节扩稳装置。

    锑化铝材料的制备方法
    9.
    发明公开

    公开(公告)号:CN105696081A

    公开(公告)日:2016-06-22

    申请号:CN201610168862.4

    申请日:2016-03-23

    CPC classification number: C30B29/52 C23G1/12 C30B11/00

    Abstract: 本发明公开了一种锑化铝材料的制备方法,用于解决现有制备的锑化铝材料电阻率低的技术问题。技术方案是以高纯铝与高纯锑为原材料,采用化学腐蚀方法除去铝表面氧化层,然后将按一定摩耳比配置的原材料放置于氮化硼坩埚中,再将氮化硼坩埚放置于石英坩埚中,抽真空,封接,采用在合料炉中使用温度振荡的方法进行合成,最后采用布里奇曼法在晶体生长炉中进行生长。由于氮化硼化学稳定性高,与铝反应速率极慢,且与AlSb同属III-V族化合物,氮元素与硼元素在AlSb晶体中没有活性施主与受主能级,无恶化电阻率的杂质,锑化铝材料电阻率由背景技术的105Ω·cm提高到109Ω·cm,空穴的霍尔迁移率达到382cm2V-1S-1。

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