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公开(公告)号：CN116791549A
公开(公告)日：2023-09-22
申请号：CN202310964813.1
申请日：2023-08-02
Applicant: 衢州学院
IPC: E02B15/10
Abstract: 本申请提供一种漂行物清理装置，包括：第一采集组件和导轨；导轨包括导轨第一端；第一采集组件具有用于收集目标液面上的第一漂行物于其中的第一采集口；第一采集口的朝向方向朝向于导轨第一端；第一采集组件可滑动地设置于导轨之上；导轨用于设置于目标液面上或目标液面中；第一采集组件配置为在导轨上朝导轨第一端滑动，以采集目标液面上的第一漂行物。本申请提供的漂行物清理装置通过在设置于目标水面的导轨上可滑动设置的具有第一采集口的第一采集组件，并进一步通过该第一采集组件沿其第一采集口朝向方向的移动，对目标液面的漂行物进行收集，实现了高效率地、低成本地对目标液面上漂行物的清理。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN116873181A
公开(公告)日：2023-10-13
申请号：CN202310955953.2
申请日：2023-07-31
Applicant: 衢州学院
Abstract: 本申请提供了一种驱动装置，包括第一驱动机构；第一驱动机构包括第一浮力构件、第一传动机构、第一引流组件以及第一排流组件；第一引流组件设置于目标流体域的第一边岸；第一排流组件设置于目标流体域的第二边岸；第一浮力构件设置于第一排流组件当中；第一传动机构设置于目标流体域的第三边岸，其输入端与第一浮力构件连接，输出端用于通过第一绕卷材料与待驱动目标连接，并配置为将第一浮力构件的升降运动与输出端的旋转运动相互转化，以及在第一浮力构件下降的过程中，通过收卷第一绕卷材料向待驱动目标提供第一拉力。该驱动装置通过对第一浮力构件自身重力和流体对第一浮力构件的浮力的交替利用以驱动待驱动目标进行，降低了驱动成本。
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公开(公告)号：CN116657232A
公开(公告)日：2023-08-29
申请号：CN202310801892.4
申请日：2023-06-30
Applicant: 衢州学院
Abstract: 本发明涉及半导体研磨加工技术领域，具体地涉及一种碳化硅晶圆电化学研磨盘，研磨盘的研磨面上开设若干间隔设置的反应槽，反应槽内设置放电电极，放电电极通电在研磨晶圆时对晶圆表面进行放电。通过设置于研磨盘中的电极间放电，释放出高能离子与瞬间高温，产生大量等离子体、氢基、羟基、自由基等。利用放电生成的高氧化性物质加速碳化硅表面的氧化，在碳化硅基板表面产生化学反应，生成氧化层。然后再用研磨面配合研磨液内的磨料去除氧化层。
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公开(公告)号：CN221455931U
公开(公告)日：2024-08-02
申请号：CN202323328888.5
申请日：2023-12-05
Applicant: 衢州学院
IPC: B25J9/06
Abstract: 本申请提供一种蛇形机械装置，涉及机械运动技术领域。蛇形机械装置包括：头部构件和至少一个身体构件；头部构件和第一个身体构件柔性连接，多个身体构件之间柔性连接；头部构件中设置有第一磁铁，身体构件中设置有第二磁铁，构件通过第一磁铁和第二磁铁的相互吸引牵引第一个身体构件进行蛇形运动，多个身体构件之间通过多个第二磁铁的相互吸引进行蛇形运动；头部构件和身体构件上设置有多个倒刺结构，倒刺结构用于限制身体构件进行单向运动。本申请在各个构件中设置磁铁代替马达等器件，以使用磁力代替震动作为蛇形机械装置前进的驱动力，有效地减小了驱动的耗能以及蛇形机械装置的成本和体积，适用于多种应用场景。
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