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公开(公告)号:CN104203433A
公开(公告)日:2014-12-10
申请号:CN201380014696.7
申请日:2013-02-06
Applicant: 荷兰应用自然科学研究组织TNO
Inventor: I·G·德弗里斯 , H·A·J·M·安德生 , A·朗根
CPC classification number: B05B13/0221 , B05B13/0207 , B05C9/08 , B05C9/14 , B05D1/38 , B05D3/0254 , H01L21/67173 , H01L21/6719
Abstract: 提供生产设备用于在箔(FO)上生产产品。该生产设备包括有洁净室形成的沉积区(10),其中排列至少第一和第二沉积设备(21,22)用于在箔上沉积一层材料。生产设备还包括至少一个加工设备(31)用于加工所述沉积的层,所述加工设备排列在所述沉积区以外并且包括具有远离所述沉积区、朝向转向设备(41)的第一路径(31a)和从所述转向设备回到所述沉积区的第二路径(31b)的加工轨迹。