公开(公告)号：CN103415650B

公开(公告)日：2017-02-22

申请号：CN201280012711.X

申请日：2012-01-31

Applicant: 荷兰应用自然科学研究组织TNO

Inventor： 阿德里亚努斯·约翰尼斯·彼得鲁 ,  斯·玛丽亚·弗美尔 ,  罗伯特·昆拉德·维特 ,  罗杰·M·W·格岑

IPC: C23C16/458 ,  C23C16/54 ,  C23C16/455 ,  B65G51/03

CPC classification number: B05C5/02 ,  C23C16/45551 ,  C23C16/458 ,  C23C16/54 ,  H01L21/6776 ,  H01L21/67784

Abstract: 一种用于在片状基材的表面上进行原子层沉积的装置，包括：喷射头，其包括设有前体供应部和前体排出部的沉积空间；所述供应部和排出部布置成将前体气流从前体供应部经由沉积空间提供至前体排出部；该沉积空间在使用中由喷射头和基材表面定界；气体承载部，其包括布置成将承载气体喷射到喷射头与基材表面之间的承载气体喷射器，承载气体由此形成气体承载部；和输送系统，其提供基材和喷射头的沿基材的平面的相对移动以形成输送平面，基材沿该输送平面输送。支承部分与喷射头相对地布置，支承部分构造成提供使输送平面中的喷射头气体承载部平衡的气体承载压力布置，使得基材通过所述气体承载压力布置而在喷射头与支承部分之间被保持成是无支承的。