公开(公告)号：CN114729445A

公开(公告)日：2022-07-08

申请号：CN202080078814.0

申请日：2020-11-12

Applicant: 荷兰应用自然科学研究组织TNO

Inventor： 阿尔费雷多·马梅利 ,  艾哈迈徳·法兹 ,  弗雷迪·罗泽博姆 ,  保卢斯·威力布罗德斯·乔治·波特

IPC: C23C16/04

Abstract: 本发明涉及一种原子层沉积装置，用于将目标材料层区域选择性地沉积在衬底表面的沉积区域上，该衬底表面还包括非沉积区域。在使用中，衬底沿着多个沉积空间和隔离剂空间传送，所述多个沉积空间和隔离剂空间包括至少两个气体隔离剂空间，所述气体隔离剂空间至少提供有隔离剂气体入口和隔离剂排放部，用于在使用中使衬底暴露于隔离剂气流。其中所述气体隔离剂空间中的至少一个形成组合的隔离剂‑抑制剂气流，所述组合的隔离剂‑抑制剂气流包括隔离剂气体和抑制剂成分。所述抑制剂成分选择性地粘附到所述非沉积区域以形成抑制层，减少前体成分的吸附。在优选的实施方式中，该装置包括回蚀刻空间，以增加沉积工艺的选择性。

公开(公告)号：CN114729445B

公开(公告)日：2024-11-19

申请号：CN202080078814.0

申请日：2020-11-12

Applicant: 荷兰应用自然科学研究组织TNO

Inventor： 阿尔费雷多·马梅利 ,  艾哈迈徳·法兹 ,  弗雷迪·罗泽博姆 ,  保卢斯·威力布罗德斯·乔治·波特

IPC: C23C16/04 ,  C23C16/54 ,  C23C16/455

Abstract: 本发明涉及一种原子层沉积装置，用于将目标材料层区域选择性地沉积在衬底表面的沉积区域上，该衬底表面还包括非沉积区域。在使用中，衬底沿着多个沉积空间和隔离剂空间传送，所述多个沉积空间和隔离剂空间包括至少两个气体隔离剂空间，所述气体隔离剂空间至少提供有隔离剂气体入口和隔离剂排放部，用于在使用中使衬底暴露于隔离剂气流。其中所述气体隔离剂空间中的至少一个形成组合的隔离剂‑抑制剂气流，所述组合的隔离剂‑抑制剂气流包括隔离剂气体和抑制剂成分。所述抑制剂成分选择性地粘附到所述非沉积区域以形成抑制层，减少前体成分的吸附。在优选的实施方式中，该装置包括回蚀刻空间，以增加沉积工艺的选择性。