公开(公告)号：CN105358260B

公开(公告)日：2017-11-10

申请号：CN201480038194.2

申请日：2014-05-02

Applicant: 荷兰应用自然科学研究组织TNO

Inventor： 萨宾娜·余丽安娜·伽贝尔 ,  伊格·赫尔格·德弗里斯

IPC: B05D1/26 ,  B05C5/02

CPC classification number: H01L51/0004 ,  B05C5/0254 ,  B05C5/0258 ,  B05C11/1021 ,  B05D1/26 ,  B05D2252/02 ,  H01L51/42

Abstract: 公开了一种狭槽式模具涂布方法和设备，以及具有图案化涂布层的基底。方法包括控制涂布流体从狭槽式模具涂布头到基底表面上的间歇性传输，以通过上述间歇性传输来提供基底表面上的被未涂布区域分隔开的涂布区域。上述基底表面包括具有高表面能量区域和低表面能量区域的预图案化层；其中涂布流体在基底表面上的接触角在高表面能量区域中比在低表面能量区域中小。低表面能量区域和高表面能量区域之间的边界沿上述狭槽式模具涂布头的狭缝方向布置。上述方法进一步包括将间歇性传输与流出开口在低表面能量区域与高表面能量区域之间的边界上方的经过同步化，其中当上述流出开口经过高表面能量区域上方时上述传输被启用，并且其中当上述流出开口经过低表面能量区域上方时上述传输被禁用。

公开(公告)号：CN105358260A

公开(公告)日：2016-02-24

申请号：CN201480038194.2

申请日：2014-05-02

Applicant: 荷兰应用自然科学研究组织TNO

Inventor： 萨宾娜·余丽安娜·伽贝尔 ,  伊格·赫尔格·德弗里斯

IPC: B05D1/26 ,  B05C5/02

CPC classification number: H01L51/0004 ,  B05C5/0254 ,  B05C5/0258 ,  B05C11/1021 ,  B05D1/26 ,  B05D2252/02 ,  H01L51/42

Abstract: 公开了一种狭槽式模具涂布方法和设备，以及具有图案化涂布层的基底。方法包括控制涂布流体从狭槽式模具涂布头到基底表面上的间歇性传输，以通过上述间歇性传输来提供基底表面上的被未涂布区域分隔开的涂布区域。上述基底表面包括具有高表面能量区域和低表面能量区域的预图案化层；其中涂布流体在基底表面上的接触角在高表面能量区域中比在低表面能量区域中小。低表面能量区域和高表面能量区域之间的边界沿上述狭槽式模具涂布头的狭缝方向布置。上述方法进一步包括将间歇性传输与流出开口在低表面能量区域与高表面能量区域之间的边界上方的经过同步化，其中当上述流出开口经过高表面能量区域上方时上述传输被启用，并且其中当上述流出开口经过低表面能量区域上方时上述传输被禁用。