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公开(公告)号:CN118841470A
公开(公告)日:2024-10-25
申请号:CN202411204726.7
申请日:2024-08-29
申请人: 苏州阿特斯阳光电力科技有限公司 , 扬州阿特斯太阳能电池有限公司
IPC分类号: H01L31/068 , H01L31/0236 , H01L31/0216 , H01L31/18
摘要: 一种太阳能电池及其制备方法,太阳能电池包括位于硅衬底背面的P型掺杂结构、位于硅衬底背面的N型掺杂结构、位于所述P型掺杂结构和所述N型掺杂结构之间的间隔区、位于所述P型掺杂结构背面的第一电极、位于所述N型掺杂结构背面的第二电极,其特征在于,所述间隔区自硅衬底的背面向正面凹陷设置,且所述间隔区朝向所述硅衬底的表面为平面。本发明的太阳能电池,位于所述P型掺杂结构和所述N型掺杂结构之间的间隔区的表面为平面,该区域的钝化效果好,在其他结构不变的前提下,可以将电池效率提高0.1%~0.2%。
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公开(公告)号:CN118919596A
公开(公告)日:2024-11-08
申请号:CN202411205043.3
申请日:2024-08-29
申请人: 苏州阿特斯阳光电力科技有限公司 , 扬州阿特斯太阳能电池有限公司
IPC分类号: H01L31/068 , H01L31/0352 , H01L31/0236 , H01L31/18
摘要: 一种太阳能电池,位于硅衬底背面的P型掺杂结构、位于硅衬底背面的N型掺杂结构、位于所述P型掺杂结构和所述N型掺杂结构之间的间隔区、位于所述P型掺杂结构背面的第一电极、位于所述N型掺杂结构背面的第二电极,沿硅衬底的正面向背面的方向上,所述P型掺杂结构高于所述N型掺杂结构。本发明的太阳能电池,通过P型掺杂结构高于N型掺杂结构,一方面增大了整个背面的表面积,扩大了受光面积;另一方面,P型掺杂结构的背面、侧面均向外暴露,增加了P型掺杂结构的吸光面积,能够产生并成功收集到更多的载流子,提高电池效率。
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公开(公告)号:CN118448474B
公开(公告)日:2024-11-05
申请号:CN202410917742.4
申请日:2024-07-10
申请人: 苏州阿特斯阳光电力科技有限公司 , 扬州阿特斯太阳能电池有限公司 , 扬州阿特斯光电材料有限公司
IPC分类号: H01L31/02 , H01L31/068 , H01L31/18
摘要: 一种太阳能电池及其制备方法,太阳能电池包括位于其背面的P区、N区、位于所述P区和所述N区之间的隔离区、与所述P区接触的第一电极、与所述N区接触的第二电极,所述太阳能电池还包括电性连接部分所述P区和部分所述N区的电连接件。本发明的太阳能电池及其制备方法,通过设置电连接件连接部分所述P区和部分所述N区,作为电池片在局部被阴影遮挡时的旁通路,减少电池的功率损失。
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公开(公告)号:CN118472062B
公开(公告)日:2024-10-29
申请号:CN202410917310.3
申请日:2024-07-10
申请人: 苏州阿特斯阳光电力科技有限公司 , 扬州阿特斯太阳能电池有限公司 , 扬州阿特斯光电材料有限公司
IPC分类号: H01L31/0224 , H01L31/0216 , H01L31/0352 , H01L31/068 , H01L31/18
摘要: 一种太阳能电池及其制备方法,太阳能电池包括位于背面的P区和N区,所述P区包括重掺杂区和轻掺杂区,所述N区的背面设有隧穿层、N型掺杂多晶硅层;太阳能电池还包括位于所述重掺杂区背面的第一电极、位于所述N型掺杂多晶硅层背面的第二电极。所述太阳能电池通过将第一电极和第二电极均设置于背面,正面无金属电极遮挡,受光面积大,光转化效率高,提高了电池效率。并通过在P区设置SE结构,提高了电池的开路电压和短路电流;在N区设置钝化接触结构,对其表面进行钝化,提高了短路电流,整体上提高了电池效率。
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公开(公告)号:CN118888610A
公开(公告)日:2024-11-01
申请号:CN202411204287.X
申请日:2024-08-29
申请人: 苏州阿特斯阳光电力科技有限公司 , 扬州阿特斯太阳能电池有限公司
IPC分类号: H01L31/0216 , H01L31/068 , H01L31/0236 , H01L31/18
摘要: 一种太阳能电池,包括位于硅衬底背面的N型掺杂结构、位于硅衬底背面的N型掺杂结构、位于所述P型掺杂结构和所述N型掺杂结构之间的间隔区、位于所述P型掺杂结构背面的第一电极、位于所述N型掺杂结构背面的第二电极,所述间隔区的表面具有钝化膜层,所述钝化膜层包括与硅衬底接触的第一电荷膜层、位于所述第一电荷膜层背离硅衬底的一侧的第二电荷膜层,第一电荷膜层与硅衬底的电荷类型一致,且第一电荷膜层和第二电荷膜层的带电类型相反。本发明优化了间隔区表面的钝化膜层,用相同电荷的膜层进行界面钝化,在用相反电荷的膜层进行场钝化,可以提高整个钝化膜层的钝化效果。
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公开(公告)号:CN118472062A
公开(公告)日:2024-08-09
申请号:CN202410917310.3
申请日:2024-07-10
申请人: 苏州阿特斯阳光电力科技有限公司 , 扬州阿特斯太阳能电池有限公司 , 扬州阿特斯光电材料有限公司
IPC分类号: H01L31/0224 , H01L31/0216 , H01L31/0352 , H01L31/068 , H01L31/18
摘要: 一种太阳能电池及其制备方法,太阳能电池包括位于背面的P区和N区,所述P区包括重掺杂区和轻掺杂区,所述N区的背面设有隧穿层、N型掺杂多晶硅层;太阳能电池还包括位于所述重掺杂区背面的第一电极、位于所述N型掺杂多晶硅层背面的第二电极。所述太阳能电池通过将第一电极和第二电极均设置于背面,正面无金属电极遮挡,受光面积大,光转化效率高,提高了电池效率。并通过在P区设置SE结构,提高了电池的开路电压和短路电流;在N区设置钝化接触结构,对其表面进行钝化,提高了短路电流,整体上提高了电池效率。
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公开(公告)号:CN118448474A
公开(公告)日:2024-08-06
申请号:CN202410917742.4
申请日:2024-07-10
申请人: 苏州阿特斯阳光电力科技有限公司 , 扬州阿特斯太阳能电池有限公司 , 扬州阿特斯光电材料有限公司
IPC分类号: H01L31/02 , H01L31/068 , H01L31/18
摘要: 一种太阳能电池及其制备方法,太阳能电池包括位于其背面的P区、N区、位于所述P区和所述N区之间的隔离区、与所述P区接触的第一电极、与所述N区接触的第二电极,所述太阳能电池还包括电性连接部分所述P区和部分所述N区的电连接件。本发明的太阳能电池及其制备方法,通过设置电连接件连接部分所述P区和部分所述N区,作为电池片在局部被阴影遮挡时的旁通路,减少电池的功率损失。
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公开(公告)号:CN221508208U
公开(公告)日:2024-08-09
申请号:CN202421572028.8
申请日:2024-07-04
申请人: 苏州阿特斯阳光电力科技有限公司 , 扬州阿特斯太阳能电池有限公司 , 扬州阿特斯光电材料有限公司
IPC分类号: H01L31/068 , H01L31/0224 , H01L31/0236 , H01L31/18
摘要: 一种太阳能电池,包括:硅衬底,其正面栅线区为光面结构,正面非栅线区为绒面结构;正面结构,包括位于正面栅线区的正面隧穿层、正面掺杂层、位于整个正面的正面钝化层和正面减反层、正面电极,所述正面电极穿过所述正面减反层、正面钝化层与所述正面掺杂层接触;背面结构,包括背面隧穿层、背面掺杂层、背面钝化层、背面减反层、背面电极,所述背面电极穿过所述背面减反层、背面钝化层与所述背面掺杂层接触。本实用新型中,正面栅线区为光面结构,有利于开槽,为采用电镀和/或化学镀形成电极提供了保障;同时正面非栅线区为绒面结构,降低了正面的光线反射率,提高了电池效率。
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公开(公告)号:CN118841471A
公开(公告)日:2024-10-25
申请号:CN202411209958.1
申请日:2024-08-29
申请人: 扬州阿特斯太阳能电池有限公司
IPC分类号: H01L31/068 , H01L31/0352 , H01L31/0236 , H01L31/18
摘要: 一种太阳能电池,包括:间隔设置的若干第一掺杂结构,所述第一掺杂结构为由掺杂源自硅衬底背面向内扩散形成的扩散区;与所述第一掺杂结构交替设置的第二掺杂结构,所述第二掺杂结构位于自硅衬底的背面向正面凹陷设置的区域,所述第二掺杂结构为遂穿钝化接触结构,所述遂穿钝化接触结构与扩散区的掺杂类型相反;间隔区,位于所述第一掺杂结构和所述第二掺杂结构之间;第一电极,位于所述第一掺杂结构的背面;第二电极,位于所述遂穿钝化接触结构的背面。本发明通过对第一掺杂结构、第二掺杂结构的优化,可以先扩散形成第一掺杂结构,再去除部分区域的扩散结,然后沉积遂穿钝化接触结构,与TOPCon电池的工艺流程兼容性高,适合产业化推进。
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公开(公告)号:CN118231514A
公开(公告)日:2024-06-21
申请号:CN202211635207.7
申请日:2022-12-19
申请人: 盐城阿特斯阳光能源科技有限公司 , 苏州阿特斯阳光电力科技有限公司
IPC分类号: H01L31/18 , H01L31/0352
摘要: 本发明提供一种太阳能电池制备方法,包括如下步骤:选用N型硅片,在其正面制绒;在制绒后的硅片正面形成选择性发射极,所述选择性发射极包括重掺杂区、轻掺杂区,所述重掺杂区与所述轻掺杂区在硅片的厚度方向上具有高度差;在所述重掺杂区的正面形成正面金属电极。该方法中,所述重掺杂区与所述轻掺杂区在硅片的厚度方向上具有高度差,扩大了正面的受光面积;且与传统的二次硼扩技术兼容性高,SE提效效果好。
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