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公开(公告)号：CN101231462A
公开(公告)日：2008-07-30
申请号：CN200810020793.8
申请日：2008-02-27
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格数码光学有限公司
IPC: G03F7/00 , G02B5/02 , G02F1/13357
Abstract: 本发明公开了一种光扩散片的制作方法，其特征在于：包括下列步骤：(1)制作至少具有一个微透镜结构的压印模仁；(2)设定计算机压印控制程序、压印参数及图形文件；(3)采用微纳米热压印或紫外压印的方法，将步骤(1)中的压印模仁，根据步骤(2)中的控制程序及图形文件，压印于待压印的基材第一压印工作位置上，基材得到相应个数的凹形微透镜；(4)根据压印参数，改变压印模仁与待压印基材的相对位置，至下一个压印工作位；(5)重复步骤(3)和(4)，直至完成所有压印程序。本发明利用微纳米压印技术直接在基材上压印凹形微透镜，使光扩散层与基材层为一体结构，避免了粘合不牢固、受热膨胀系数不同等造成的散光效果下降、物理变形等现象，有效提高光扩散片的性能。
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公开(公告)号：CN100349024C
公开(公告)日：2007-11-14
申请号：CN200510095776.7
申请日：2005-11-17
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格数码光学有限公司
Abstract: 本发明公开了一种微光变图像的激光直写方法及装置，包括：(1)构建低空频光栅数字模板，以光栅取向角度等间隔分布，对每一单元光栅用数据结构表达，记录在计算机数据库中；(2)根据所需刻制的微光变图像，从低空频光栅数字模板中选取对应的光栅结构，利用激光束将空间光调制器上显示的光栅图样投影在记录介质上，形成缩小单元像；(3)改变光路和记录介质的相对位置，变换对应空频和取向的光栅图样，重复步骤(2)，依次刻录各个光栅单元，获得所需微光变图像。本发明采用直接成像的方法，整个光变图像的制作过程不需要机械旋转的方式来获得条纹取向，只要通过计算机在模板上读取不同取向的单元，输入SLM上即可实现光栅线条的旋转，因此，精度高。
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公开(公告)号：CN101017218A
公开(公告)日：2007-08-15
申请号：CN200710020411.7
申请日：2007-02-14
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格数码光学有限公司
IPC: G02B6/00 , G02B6/124 , G02B6/34 , G02B1/10 , G02F1/13357
Abstract: 本发明公开了一种衍射光栅光导薄膜，在薄膜的一侧表面，设有平铺的光栅像素单元，其特征在于：所述光栅像素单元由亚像素结构组成，每一亚像素内的衍射光栅取向、空间频率、槽型深度根据导出光线的方向与光强确定。其制作方法包括下列步骤：(1)设计导光图样的衍射结构分布；(2)将导光图样按照像素结构分布排列成不同序列，每一个单元像素由亚像素构成，每个亚像素内的衍射光栅的取向、空间频率均可以改变；(3)光刻；(4)通过电铸制成金属镍板，对涂布有涂层的PET或PC薄膜进行卷对卷的压印。本发明改进了导光均匀性，提高了导光效果，其制作方法便捷可靠。
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公开(公告)号：CN101377555B
公开(公告)日：2011-05-04
申请号：CN200810156773.3
申请日：2008-09-26
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格数码光学有限公司
Abstract: 本发明公开了一种亚波长埋入式光栅结构偏振片，包括透明基底、介质光栅、第一金属层、第二金属层，所述介质光栅具有周期性间隔设置的脊部和沟槽，所述第一金属层覆盖于介质光栅的脊部，所述第二金属层覆盖于介质光栅的沟槽中，介质光栅的周期小于入射光波长，其特征在于：在所述第一金属层和第二金属层的顶部上表面覆盖有介质覆盖层，在所述透明基底和介质光栅之间设有高折射率介质层，所述高折射率介质层的折射率在1.6至2.4之间。介质覆盖层既可以对偏振片的透射效率起调制作用，又可以起到保护金属层的作用，防止金属层被氧化和在集成过程中被破坏；在整个可见光波段，该偏振片具有高透射效率、高消光比、宽广的入射角度范围。
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公开(公告)号：CN101131537B
公开(公告)日：2011-04-20
申请号：CN200710132387.6
申请日：2007-09-13
Applicant: 苏州苏大维格数码光学有限公司 , 苏州大学
IPC: G03F7/00
Abstract: 本发明公开了一种精密数字化微纳米压印的方法，其特征在于，包括下列步骤：(1)将待压印的微纳结构图形划分为微区单元阵列；(2)根据微区单元制作压印模仁；(3)确定压印模仁与待压印基板的相对位置，进入第一个压印工作位；(4)进行一个微区单元的微纳结构图形压印；(5)改变压印模仁与待压印基板的相对位置，至下一个压印工作位；(6)重复步骤(4)和(5)，至完成所有微区单元的压印。其装置可以通过工作平台与压印头间的相对运动，实现上述方法。本发明通过小面积压印结构的拼接，实现了大幅面的微纳结构图形制作，解决了现有技术中当模仁面积增大时，发生图形畸变的可能性也随之增大的问题；并且扩大了微纳米压印的应用范围。
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公开(公告)号：CN101131537A
公开(公告)日：2008-02-27
申请号：CN200710132387.6
申请日：2007-09-13
Applicant: 苏州苏大维格数码光学有限公司 , 苏州大学
IPC: G03F7/00
Abstract: 本发明公开了一种精密数字化微纳米压印的方法，其特征在于，包括下列步骤：(1)将待压印的微纳结构图形划分为微区单元阵列；(2)根据微区单元制作压印模仁；(3)确定压印模仁与待压印基板的相对位置，进入第一个压印工作位；(4)进行一个微区单元的微纳结构图形压印；(5)改变压印模仁与待压印基板的相对位置，至下一个压印工作位；(6)重复步骤(4)和(5)，至完成所有微区单元的压印。其装置可以通过工作平台与压印头间的相对运动，实现上述方法。本发明通过小面积压印结构的拼接，实现了大幅面的微纳结构图形制作，解决了现有技术中当模仁面积增大时，发生图形畸变的可能性也随之增大的问题；并且扩大了微纳米压印的应用范围。
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公开(公告)号：CN101034252A
公开(公告)日：2007-09-12
申请号：CN200710039274.1
申请日：2007-04-10
Applicant: 苏州苏大维格数码光学有限公司 , 苏州大学
Abstract: 本发明公开了一种具有像面全息结构的投影屏，其特征在于：在投影屏幕主体上附着有像面全息信息，所述像面全息信息为在投影屏幕的竖直方向上带有延展趋势的散斑结构，定义组成散斑的微小衍射颗粒结构在竖直方向为长径L，在水平方向为短径W，则1.5W≤L≤10W。本发明同时公开了采用二步成像法制备所述投影屏的方法。本发明的投影屏具有高亮、清晰及透明的特点，对环境的要求不高，适合高端的消费场所使用；也适合追求时尚的人士做家庭影院使用。
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公开(公告)号：CN101030028A
公开(公告)日：2007-09-05
申请号：CN200710039276.0
申请日：2007-04-10
Applicant: 苏州苏大维格数码光学有限公司 , 苏州大学
Abstract: 本发明公开了一种新型衍射投影屏，包括屏幕主体及覆盖于屏幕主体表面的防护层，其特征在于：所述屏幕主体由透明或半透明材料构成，其上分布全息像素单元，单元的点阵结构是基于散斑的像面全息。通过激光分束及毛玻璃成像，以及利用压印技术，可以获得本发明的投影屏。本发明获得的投影屏实现了全息投影，不受环境光干扰、高亮度、高清晰；并突破了传统投影光学理念，创造性地将全息光学投影引入投影屏幕制造领域。
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公开(公告)号：CN1834731A
公开(公告)日：2006-09-20
申请号：CN200610038417.2
申请日：2006-02-16
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格数码光学有限公司
IPC: G02B27/42
Abstract: 本发明公开了一种消色差变色银衍射图像的制作方法，包括下列步骤：(1)制备一种二元光学元件，其远场衍射光场是一条狭缝；(2)构建一个4F光学系统，将步骤(1)获得的二元光学元件放置在其变换平面上，作为分束元件，使得入射光被分成两个条形光场，经透镜组成像后，在记录材料表面形成一个散斑干涉图像单元；(3)改变光学系统与记录材料的相对位置，在记录材料上分别记录对应的条形散斑干涉图像单元，获得消色差变色银衍射图像。本发明同时提供了实现该方法的装置。本发明提供了一种简单、快速、成本低、加工面积大的条形散斑制作方法，使消色差变色银衍射图像进入实用，可以替代现有的银色喷涂技术而实现类似的金属银效果，以解决环保问题。
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公开(公告)号：CN100495215C
公开(公告)日：2009-06-03
申请号：CN200610037797.8
申请日：2006-01-12
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格数码光学有限公司
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
Abstract: 本发明公开了一种对光滑表面进行光刻蚀的方法，采用大功率激光器作为光源，将激光束准直成平行光，经过光阑及透镜后，由分束元件产生分束光束，再会聚到材料表面，形成均匀干涉条纹光场，在光滑表面材料上进行超过材料损伤阈值的光蚀实现图像制作，其特征在于：所述光源采用紫外光输出的大功率二极管泵浦的固态激光器的三倍频或四倍频，所述光阑为可调矩形光阑，在同一位置进行单次脉冲加工，控制激光器的功率，使得在干涉条纹的光强相长处材料发生气化，在材料表面形成条纹结构。并以此制作方法实现微米级条纹高速激光光蚀系统，从而使得激光微米级光栅图像的加工进入真正意义上的工业化应用阶段，是一种微米级结构的先进制造技术。
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